[发明专利]一种锡滴发生装置

说明书

本发明公开了一种锡滴发生装置，包括：倒置的锡滴发生器本体；在所述锡滴发生器本体的喷嘴上方设置有锡池，所述锡池与所述喷嘴联通；所述锡池上设置有加热线圈，用于对锡池中的锡进行加热，使其保持熔融态。本发明的锡滴发生装置采用倒置结构设计，将锡滴的喷射方向改变为由下至上，并且在喷嘴部分设计了锡池结构，从而将喷嘴用薄层熔融态的锡液面保护，避免喷头由于锡的残留或者杂质累积。

技术领域

本发明涉及集成电路制造光刻设备技术领域，特别是涉及一种锡滴发生装置。

背景技术

现在主流极紫外(Extremely Ultra-Violet，EUV)光刻机采用激光激励等离子体(Laser Produced Plasma，LPP)光源，并且靶材料采用锡(Sn)。如附图1所示，在现有的光刻机中，锡由锡滴发生器2中的加热装置加热到熔融状态后，逐滴向下喷出。脉冲激光发生器1(一般采用二氧化碳气体激光器)发出的脉冲激光束经过聚焦透镜3聚焦在下落的锡滴上，将其加热到等离子体状态，从而产生包括13.5nm极紫外光的辐射。锡滴的喷射频率一般为50-200kHz，锡滴的滴落速度通常≥30m/s，与脉冲激光的脉冲同步。锡滴辐射出的极紫外光由反射式聚焦镜4聚焦到一个被称为中间聚焦点(Intermediate Focus，IF)的地方，与之后的照明光路相连。

在图1所示的结构中，锡滴发生器2的喷嘴的口径只有20-30μm，锡滴的喷嘴容易被半凝固的残留锡或者锡内的杂质累积堵塞，导致锡滴喷射角度发生偏移。因此在实际应用过程中需要定期对锡滴位置进行测量，偏移后需要对喷头进行清洁。定期测量和清洗过程中会影响到主流极紫外光刻机的正常使用，且测量和清洗过程繁琐。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种锡滴发生装置。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种锡滴发生装置包括：

倒置的锡滴发生器本体；

在所述锡滴发生器本体的喷嘴上方设置有锡池，所述锡池与所述喷嘴联通；

所述锡池上设置有加热线圈，用于对锡池中的锡进行加热，使其保持熔融态。

进一步地，在所述锡池外壁上还设置有第一电驱动装置，用于激发所述锡池中熔融态的锡产生预设频率的驻波振动。

进一步地，在所述第一电驱动装置和所述锡池的侧壁之间设置有绝热层。

进一步地，所述锡池为圆形扁平状，所述第一电驱动装置至少为四个，对称设置在所述锡池的周围。

进一步地，所述预设频率与所述锡滴发生器本体的喷射频率相同，并且在所述喷嘴位置的液面处于波谷时，喷射所述锡滴。

进一步地，所述锡滴发生装置还包括：

相位检测装置，用于检测所述液面振动在所述喷嘴位置的相位信息；

喷射控制装置，用于根据所述相位信息，控制所述锡滴喷射的相位，使得所述锡滴喷射时，所述喷嘴位置的液面处于波谷。

进一步地，所述倒置的锡滴发生器本体包括：

带有压力推送机构的盛放熔融态的锡的腔体；

设置在所述腔体上部并与所述腔体联通的喷管，所述喷管的上部末端与所述喷嘴联通；

在所述腔体的外壁和所述喷管的外壁上设置有加热线圈。

进一步地，所述喷管的一部分外壁上设置有加热线圈，所述喷管的另一部分外壁上设置有绝热层。

进一步地，在所述绝热层的外侧设置有第二电驱动装置，用于激发所述喷管中熔融态的锡产生驻波振动。