[发明专利]核辐射检测仪测量磷屏成像样品放射强度准确性验证方法在审

专利信息
申请号: 202011389387.6 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112540398A 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 徐希杰;邹美芬;徐栋;钦晓峰;陆春雄;陈正平;顾晓波;俞惠新;张波;孙志强 申请(专利权)人: 江苏省原子医学研究所
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00;G01T1/178
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 李小叶
地址: 214063*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 核辐射 检测 测量 成像 样品 放射 强度 准确性 验证 方法
【说明书】:

本发明公开了一种核辐射检测仪测量磷屏成像样品放射强度准确性的验证方法,包括如下步骤:制备多个不同浓度点的核素标记样品溶液;将每个浓度点的核素样品溶液点样至聚酰胺薄膜条的中心点处,得到磷屏成像模拟样品;将弯曲后的磷屏成像模拟样品放置于安瓿瓶中,利用γ计数器完成测量,并记录测量数据;将磷屏成像模拟样品插入到多功能核辐射检测仪的放射性强度辅助测量装置中,启动该多功能核辐射检测仪完成测量,并记录测量数据;对γ计数器测量得到的测量数据和多功能核辐射检测仪测量得到的测量数据进行比较,验证两者相关性。本发明验证了利用多功能辐射检测仪测量放射强度的准确性,开拓了核辐射检测仪测量磷屏成像样品放射强度的新应用。

技术领域

本发明属于放射性测量技术领域,特别涉及一种核辐射检测仪测量磷屏成像样品放射强度准确性验证方法。

背景技术

磷屏成像系统是由附着于聚酯支撑面上的一层对射线敏感、可被光激发的磷屏和激光扫描系统组成,在曝光的过程中,磷屏收集被照射到的射线能量,用以进行扫描激发过程。其工作原理是利用放射性核素发射的射线使磷屏曝光,激发磷屏上的分子,使磷屏吸收能量分子发生氧化反应,以高能氧化态形式储存在磷屏分子中,当激发态回到基态时多余的能量以光子形式释放,从而在PMT捕获进行光电转换而成像,磷屏分子回到还原态。磷屏成像系统具有使用方便、快捷、自动化程度和分辨率高、图像清晰等特点,既可定位,又可定量分析。磷屏成像系统可以对如3H、14C、125I、131I和18F等放射性核素和放射性标记化合物进行成像。而放射性样品的放射性的强弱直接关系到曝光的时间和成像的质量。

在核医学领域,采用核素标记样品,然后利用磷屏成像系统对核素标记样品进行医学分析;例如,磷屏成像系统可以直观、准确的显示核素标记药物在动物特定器官或组织中的摄取和分布。而磷屏成像系统所获得的图像的优质性取决于磷屏成像系统所使用的放射性样品的放射强度和曝光时间。因此,预先测量获得磷屏成像样品的放射强度数据,可以为精确估算放射性样品的曝光时间和进一步提高磷屏成像系统的图像质量提供研究依据。此外,在实验室条件下,利用磷屏成像系统进行核素标记样品的放射成像研究时,一般需要将核素标记样品点样至载玻片上,然后将载玻片置于磷屏设备上,并设置好载玻片与磷屏之间的距离,进行成像研究。

放射性测量仪器的测量原理是相同的,而具体到不同的核素、不同的实验对象,仪器的形式、大小却千差万别,他们之间的测量效率也各不相同,但其测量所得的数据一定是密切相关和可比的。目前,放射性检测仪器有γ计数器、辐射检测仪等;但是γ计数器需要采用可弯曲的材料进行样品制备,从而将样品置于安瓿瓶中进行测量,从而无法适用载玻片形式的样品的测量,也无法模拟磷屏成像系统的放射成像研究条件;辐射检测仪是一种常规通用于核医学相关实验室测量放射性污染的手持式仪器;辐射检测仪上设有一个大孔,大孔内装有探头,探头的上方设有隔离网;测量污染时,手持该仪器对准待测目标(尽量接近目标)进行测量。但是这种仪器和方法只能测量是否辐射污染超标,并不能精确获得放射强度;而且,如果直接将样品紧贴到隔离网处测量,则极易污染辐射检测仪的探头,也不能模拟磷屏成像系统的放射成像研究条件。即这种手持式辐射检测仪无法在测量时进行精确定位、定距,测量的结果会出现较大的误差,也不能模拟磷屏成像系统的放射成像研究条件。

本发明的申请人于2018年11月8日申请的专利号为201821835079.X的专利中,已经提供了一种用于测量磷屏成像样品放射强度的辅助装置,该辅助装置可以安装于辐射检测仪上,实现对磷屏成像样品的精准定位;但是该专利并没有涉及利用该辅助装置与辐射检测仪结合后测量磷屏成像样品的放射强度的方法,也没有对利用辐射检测仪测量放射强度的准确性、可靠性进行验证和描述。

发明内容

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏省原子医学研究所,未经江苏省原子医学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011389387.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top