[发明专利]一种有效提高防辐射屏蔽罩生产效率的方法在审

专利信息
申请号: 202011393813.3 申请日: 2020-12-03
公开(公告)号: CN114599218A 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 夏爽;王国胜 申请(专利权)人: 嘉丰盛精密电子科技(孝感)有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;B05D1/00;B05D3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 432000 *** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 有效 提高 防辐射 屏蔽 生产 效率 方法
【说明书】:

发明涉及一种有效提高防辐射屏蔽罩生产效率的方法,包括以下步骤:S1、上料;S2、清洁烘干;S3、涂胶;S4、涂胶部保护;S5、涂胶部冲压和切膜;S6、盖板成型;S7、屏蔽罩边框的原料成型;S8、边框的成型;S9、屏蔽罩的成型。本发明具有能够在屏蔽罩的加工过程中即可完成粘结胶的设置,解决了每次在使用屏蔽罩都需要涂胶的问题,提高了效率,节省了时间效果。

技术领域

本发明涉及屏蔽罩的技术领域,尤其是涉及一种有效提高防辐射屏蔽罩生产效率的方法。

背景技术

屏蔽是电工学中的一种装置方式。为了防止外界电场、磁场或电磁场对内部设备的干扰或为了避免设备的电磁场对外界的影响,将设备放在一个封闭或近似封闭的金属壳或金属网罩中,这种金属壳或网罩称为屏蔽罩。屏蔽罩是用来屏蔽电子信号的工具。作用就是屏蔽外界电磁波对内部电路的影响和内部产生的电磁波向外辐射。

现有的可参考授权公告号为一种屏蔽罩,其用于对设置在印刷电路板上的多个电子元器件进行电磁屏蔽;包括:盖,其边缘向下弯折形成有与其一体成形且周向连续的围框,从而围框与盖形成开口向下的容置凹槽;围框能与印刷电路板相连接,容置凹槽能被印刷电路板盖合,从而形成将多个电子元器件罩设在其中的内部屏蔽空间;内部屏蔽空间中设置有至少一个分隔件,至少一个分隔件将内部屏蔽空间分隔成与多个电子元器件相对应的子屏蔽空间,多个子屏蔽空间之间相隔离;分隔件的顶与盖的底壁相连接,分隔件的端部与围框的内壁相连接,分隔件与盖、围框之间形成导电路径。该实用新型实施例的屏蔽罩能够对多个电子元器件起到较佳的电磁屏蔽效果。

上述现有技术方案即为一种屏蔽罩,在使用时,一般需要人工在屏蔽罩的下侧对应电路板的上所抵接屏蔽元件的位置涂上或贴合上粘结胶,然后再将屏蔽罩扣合于电路板上,从而完成屏蔽罩与电路板的固定,但在使用时,由于每次使用前都需要对屏蔽罩下侧能够抵接电路板上所需屏蔽元件的位置贴胶再使用,精度度较低,且操做较为繁琐,使用不便。

发明内容

本发明的目的是提供一种有效提高防辐射屏蔽罩生产效率的方法,具有能够在屏蔽罩的加工过程中即可完成粘结胶的设置,解决了每次在使用屏蔽罩都需要涂胶的问题,提高了效率,节省了时间。

本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种有效提高防辐射屏蔽罩生产效率的方法,包括以下步骤:

S1、上料:采用硬质柔性防辐射屏蔽材料的卷带作为屏蔽罩原料,采用送料设备将屏蔽带的一端输送;

S2、清洁烘干:采用清洁烘干设备将S1中输送出的屏蔽带的表面进行清洁并烘干,保证屏蔽带表面的洁净和干燥度;

S3、涂胶:采用涂胶设备将从S2传送过来的屏蔽带的一侧随屏蔽带的传送进行间歇涂胶,每次的涂胶区域均为加工完成后屏蔽罩能够抵接于电路板所屏蔽元件的位置,即屏蔽罩于电路板屏蔽元件的连接部;

S4、涂胶部保护:采用抚摸设备对S3中加工完成的屏蔽带涂胶侧贴合保护膜,保护屏蔽带的涂胶部;

S5、涂胶部冲压和切膜:采用冲压设备对S4中贴合有保护膜的屏蔽带涂胶部进行冲压,使屏蔽带的涂胶部表面凸出于屏蔽带的表面,并同时切除屏蔽带涂胶部区域以外的保护膜;

S6、盖板成型:采用冲切设备对S5中传送过来的屏蔽带进行依次冲切,完成屏蔽罩盖板成型下料;

S7、屏蔽罩边框的原料成型:将S6中冲切屏蔽罩盖板后产生的屏蔽带废料继续传送,并对其两侧进行切条,使完成屏蔽带盖板成型后的屏蔽带废料形成两根屏蔽带条,即为屏蔽罩边框的原料;

S8、边框的成型:将S7中的屏蔽罩边框原料通过辊压整形并切断成展开后屏蔽罩边框的长度,然后将整形完成的屏蔽带条进行折弯形成方框结构,最后,将弯折方框形的屏蔽带条的两端进行焊接,完成边框的成型;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉丰盛精密电子科技(孝感)有限公司,未经嘉丰盛精密电子科技(孝感)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011393813.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top