[发明专利]差动共焦定面干涉靶丸内、外表面缺陷检测方法与装置有效
申请号: | 202011396205.8 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN112630232B | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 赵维谦;杨帅;王允;邱丽荣 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01N21/892 | 分类号: | G01N21/892 |
代理公司: | 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人: | 张利萍 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 差动 共焦定面 干涉 靶丸内 外表 缺陷 检测 方法 装置 | ||
1.差动共焦定面干涉靶丸内、外表面缺陷检测方法,其特征在于:包括如下检测步骤:
(1-1)打开短相干激光器,发出的测量光束经过准直透镜和测量物镜后会聚,利用差动共焦高精度定位技术分别准确定位被测靶丸和干涉相机,使靶丸内、外表面分别精确对焦成像在干涉相机上;
(1-2)由近向远地调整参考臂的光学延迟,干涉相机中第一次出现的干涉条纹即外表面干涉条纹,第二次出现的干涉条纹即内表面干涉条纹;轴向步进式地驱动参考镜进行机械式移相,干涉相机采集N帧移相干涉图,移相干涉图的光强表达式表示为:
其中Ii及Io分别表示内、外表面干涉图光强,(x,y)表示干涉图的像素坐标,n=1,2…N表示移相干涉图的帧数,A和B分别表示背景光强和调制度,和分别表示内、外表面反射波面的相位,δ表示移相量;
(1-3)利用移相干涉算法从采集的移相干涉图中提取和经过解包裹、拟合剔除和高通滤波处理后,利用公式(2)得出内、外表面缺陷分布hi和ho
其中λ表示光源的中心波长,M表示由外表面缺陷对内表面测量光相位调制造成的内表面伪缺陷,外表面缺陷与其造成的内表面伪缺陷具有相同的像素坐标,根据外表面缺陷的像素位置将内表面伪缺陷精准、原位地标记或剔除。
2.根据权利要求1所述的差动共焦定面干涉靶丸内、外表面缺陷检测方法,其特征在于:步骤(1)所述利用差动共焦高精度定位技术分别准确定位被测靶丸和干涉相机,使靶丸内、外表面分别精确对焦成像在干涉相机上的步骤如下:
(2-1)将靶丸外表面精确定位在猫眼位置:在猫眼位置轴向扫描靶丸,将第一探测器和第二探测器探测的光强差动相减即得到如公式(3)所述的差动共焦响应曲线,
其中,ID表示差动共焦光强,u表示归一化轴向位移,uM表示探测器的归一化离焦量;调整靶丸的轴向位置使差动共焦响应曲线的强度为零;
(2-2)将干涉相机定位在外表面共轭成像位置:将靶丸从猫眼位置向靠近测量物镜的方向移动d1的距离使得外表面反射光束的聚焦点与猫眼位置的距离正好是靶丸外径,此时反射的测量光汇聚在干涉相机靶面上;轴向扫描干涉相机并记录其轴向位置,在干涉相机上设置虚拟针孔,将虚拟针孔内所有像素灰度值的积分作为探测光强即可探测到共焦响应曲线,
其中IC表示共焦光强,u表示归一化轴向位移;对该曲线进行单边平移差动处理或sinc2拟合处理即可精确获得其顶点的轴向位置坐标,将干涉相机准确调整至该坐标位置;
(2-3)将靶丸精确定位在共焦位置:将靶丸继续向靠近物镜的方向移动至共焦位置附近并轴向扫描靶丸,差动共焦探测系统探测到差动共焦响应曲线,调整靶丸的轴向位置使差动共焦响应曲线的强度为零,此时实现靶丸外表面精准对焦;
(2-4)将干涉相机定位在内表面共轭成像位置:以干涉相机的外表面共轭成像位置为原点,将干涉相机向靠近成像透镜的方向移动d2的距离,即将干涉相机定位在内表面共轭成像位置,此时实现靶丸内表面精准对焦。
3.根据权利要求1所述的差动共焦定面干涉靶丸内、外表面缺陷检测方法,其特征在于:步骤(1-2)所述移相还能够通过同步瞬态移相技术实现,即无需轴向步进式地驱动参考镜进行机械式移相;
所述同步瞬态移相的方法为:在成像光路中增加四分之一波片,将干涉相机的每4个像素分为一组,每组像素前依次放置0°,45°,90°,135°的偏振片,进而从一帧干涉图中即能够提取出4帧移相量为90度的移相干涉图。
4.根据权利要求2所述的差动共焦定面干涉靶丸内、外表面缺陷检测方法,其特征在于:步骤(2-2)所述共焦响应曲线进行单边平移差动处理步骤如下:选取共焦曲线两侧相对强度在0.45-0.65之间的数据点,分别拟合出两条直线lA和lB,将两直线差动相减可得到差动共焦直线ldc,求出ldc的绝对零点轴向坐标即共焦曲线的顶点轴向坐标。
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