[发明专利]基材膜、层叠体和它们的制造方法

权利要求书

1.一种基材膜，其为待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜，

待涂布所述涂布液一侧的表面中的硅元素量的标准偏差为0.04以上且0.09以下。

2.根据权利要求1所述的基材膜，其中，所述表面中的平均硅元素量为0.02原子％以上且1.0原子％以下。

3.根据权利要求1或2所述的基材膜，其中，所述基材膜包含选自环状聚烯烃系膜、聚酯系膜、纤维素酯系膜和聚(甲基)丙烯酸系膜中的1种以上。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基材膜，其中，所述基材膜的厚度为100μm以下。

5.一种层叠体，其包含权利要求1～4中任一项所述的基材膜、以及液晶层。

6.根据权利要求5所述的层叠体，其中，所述液晶层为聚合性液晶化合物的固化层。

7.根据权利要求5或6所述的层叠体，其进一步在所述基材膜与所述液晶层之间具有取向层。

8.一种基材膜的制造方法，其是由加工前膜得到待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜的、基材膜的制造方法，包含：

边搬运所述加工前膜，边将辊抵接于成为所述基材膜中待涂布所述涂布液一侧的所述加工前膜的表面的工序，

所述抵接的工序中的所述加工前膜的每单位截面积的张力为1.0N/mm²以上且2.5N/mm²以下。

9.根据权利要求8所述的基材膜的制造方法，其进一步包含以下工序中的至少一个工序：在所述抵接的工序后，用溶剂清洗所述加工前膜的所述表面的工序；和在所述抵接的工序后，对所述加工前膜的所述表面以200W·min/m²以上的处理量进行电晕处理的工序。

10.一种基材膜的制造方法，其是由加工前膜得到待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜的、基材膜的制造方法，包含：

边搬运所述加工前膜，边将辊抵接于成为所述基材膜中待涂布所述涂布液一侧的所述加工前膜的表面的工序，以及

以下工序中的至少一个工序：在所述抵接的工序后，用溶剂清洗所述加工前膜的所述表面的工序；和在所述抵接的工序后，对所述加工前膜的所述表面以200W·min/m²以上的处理量进行电晕处理的工序。

11.根据权利要求8～10中任一项所述的基材膜的制造方法，其中，所述辊是用于除去在所述加工前膜的所述表面附着的异物的清洁辊。

12.根据权利要求8～11中任一项所述的基材膜的制造方法，其中，所述辊至少表面由硅酮橡胶形成。

13.一种层叠体的制造方法，其是包含基材膜和液晶层的层叠体的制造方法，包含：

对权利要求1～4中任一项所述的基材膜、或通过权利要求8～12中任一项所述的基材膜的制造方法制造的所述基材膜，涂布包含液晶化合物的涂布液的工序。

14.根据权利要求13所述的层叠体的制造方法，其中，所述液晶化合物为聚合性液晶化合物，所述制造方法包含：

在所述涂布的工序后，在所述基材膜上将所述聚合性液晶化合物聚合固化的工序。

15.根据权利要求14所述的层叠体的制造方法，其中，所述涂布的工序包含：

在所述基材膜形成取向层，并在所述取向层上涂布所述涂布液的工序。