[发明专利]长焦抗光幕

权利要求书

1.一种长焦抗光幕，其特征在于，包括：

基材；

光学结构层，该光学结构层系设在该基材的一面，该光学结构层设有多个光学微结构体，各该光学微结构体之间相隔一填补间距，并形成一填补空间，且各该光学微结构体由该基材之一面往远离该基材的方向层叠地设有多个阶段部，从该基材由下往上的各该阶段部的外侧面与该基材之间的夹角逐渐变大，各该阶段部系为两个梯形四面体，靠近该基材的其中一各梯形四面体为第一四面体，而较远离该基材的另一梯形四面体为第二四面体；

吸光填补层，该吸光填补层系填补在该填补空间到达该第一四面体与该第二四面体交界处；

扩散填补层，该扩散填补层再填补在该填补空间的该吸光填补层之上，并填满该填补空间；及

影像反射层，该影像反射层设在该扩散填补层与该光学结构层之上；

其中，该光学结构层与该吸光填补层之间的介接位置产生界面痕，而发生全反射，让环境光被该吸光填补层吸收，而该扩散填补层调整该影像反射层的视角。

2.如权利要求1所述的长焦抗光幕，其特征在于，该第一四面体的外侧面与该基材之间的具有第一夹角，该第一夹角角度系15度～30度，任意两个相邻第一四面体的底面之间的间距为5～15μm，该第一四面体的底面的尺寸系30～70μm，该第一四面体的高度系30～60μm。

3.如权利要求2所述的长焦抗光幕，其特征在于，该第二四面体的外侧面与该基材之间的具有第二夹角，该第二夹角的角度大于第一夹角角度，该第二夹角角度系55度～85度，该第二四面体的底面的尺寸系25～40μm，该第二四面体的高度系10～30μm。

4.如权利要求1所述的长焦抗光幕，其特征在于，该影像反射层之上设有保护层。

5.如权利要求1所述的长焦抗光幕，其特征在于，该基材的另一面设有散射层，该散射层用于将入射的光线向该基材的方向散射。

6.如权利要求1所述的长焦抗光幕，其特征在于，该扩散填补层背对该吸光填补层之一面具有另一光学微结构。