[发明专利]一种高精度大视场波前测量方法、电子设备及介质

权利要求书

1.一种高精度大视场波前测量方法，基于设置有成像靶面(1)和掩膜板(2)的图像传感器，所述掩膜板(2)上按预设的分布密度均匀设置有复数个微型通光孔，其特征在于，包括步骤：

分别在有/无光学畸变场(3)的情况下获得的一对点阵图；

在所述一对点阵图的查询区内沿x方向和y方向分别设置M和N个大小一致的质询窗口，得到M×N质询窗口阵列；

进行互相关计算处理，计算查询区中心点坐标、发生偏折前后的质询窗口形心坐标；

结合查询区中心点坐标、发生偏折前后的质询窗口形心坐标和掩膜板(2)距成像靶面(1)之间的距离L，计算相应质询窗口形心x和y方向的光线偏折角；

根据惠更斯原理，获得波前传播方向信息：

通过积分方法，利用获得的波前传播方向信息进行波前重构，获取对应的光程OPL结果，完成波前测量工作；

所述进行互相关计算处理，计算查询区中心点坐标、发生偏折前后的质询窗口形心坐标，具体包括步骤：

通过预先光路和互相关计算查询区配置，将位于查询区中心的质询窗口形心与光路主轴重合；

计算查询区中心点坐标为：

其中，C质询窗口形心之间的距离，S为质询窗口内切圆的直径，当M为奇数时，令M＝M+1，当N为奇数时，N＝N+1；

计算光线发生偏折前查询区内任意质询窗口形心坐标:

计算光线发生偏折后查询区内任意质询窗口形心坐标：

2.根据权利要求1所述的高精度大视场波前测量方法，其特征在于，

所述结合查询区中心点坐标、发生偏折前后的质询窗口形心坐标和掩膜板(2)距成像靶面(1)之间的距离L，计算相应质询窗口形心x和y方向的光线偏折角，具体包括步骤：

根据几何关系计算相应质询窗口形心x和y方向的光线偏折角：

3.根据权利要求1所述的高精度大视场波前测量方法，其特征在于，

设置质询窗口时，单个质询窗口内光斑数量在20个以上。

4.根据权利要求1所述的高精度大视场波前测量方法，其特征在于，

所述积分方法包括Southwell积分算法、梯度积分算法。

5.根据权利要求1所述的高精度大视场波前测量方法，其特征在于，

所述微型通光孔的直径d10λ，且直径d与掩膜板(2)距成像靶面(1)的距离满足关系：同时L＞＞25λ，λ为光线波长；

所述成像靶面(1)为CCD传感器或者CMOS传感器。

6.根据权利要求5所述的高精度大视场波前测量方法，其特征在于，

所述微型通光孔在掩膜板(2)上行列式规则分布，

或者，

所述微型通光孔在掩膜板(2)上无规则随机分布。

7.根据权利要求6所述的高精度大视场波前测量方法，其特征在于，

所述掩膜板(2)上的微型通光孔的分布密度满足孔隙比0.4～0.6，且各微型通光孔相互之间不重叠。

8.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至7中任一项所述的高精度大视场波前测量方法。

9.一种存储介质，所述存储介质包括存储的程序，其特征在于，在所述程序运行时控制所述存储介质所在的设备执行如权利要求1至7中任一项所述的高精度大视场波前测量方法。