[发明专利]基于大小校正的投影方法、系统及可读存储介质有效

专利信息
申请号: 202011402175.7 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112584112B 公开(公告)日: 2023-10-03
发明(设计)人: 李志;金凌琳;林锦发 申请(专利权)人: 深圳市当智科技有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;G06T3/40
代理公司: 深圳市辰为知识产权代理事务所(普通合伙) 44719 代理人: 唐文波
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 基于 大小 校正 投影 方法 系统 可读 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种基于大小校正的投影方法,其特征在于,所述宽屏投影系统包括设置于同一底座平面的两个光机和摄像头,所述摄像头设置于两个光机之间;

所述投影方法包括:

宽屏投影系统开机并且两个光机进行投影对焦和梯形校正之后,控制两个光机向摄像头拍摄方向上的投影面,分别投影拼接校准图像;

基于摄像头拍摄拼接校准图像的采集图像,确定两个拼接校准图像的位置关系;并根据所述位置关系,调整两个光机的投射夹角角度,直至两个拼接校准图像无缝拼接;

两个拼接校准图像无缝拼接之后,保持两个拼接校准图像无缝拼接,两个拼接校准图像各自进行梯形校正,直至两个拼接校准图像为矩形;

在两个拼接校准图像完成梯形校正后,对矩形的所述拼接校准图像进行投影大小校正,直到左右两个拼接校准图像大小一致,此过程保持两个拼接校准图像无缝拼接;

待两个拼接校准图像完成投影大小校正后,控制两个光机向投影面投影分别投影待显示图像,两个待显示图像由一个原始图像切割得到;最终两个投影图像合成原始图像。

2.如权利要求1所述的基于大小校正的投影方法,其特征在于,所述对矩形的所述拼接校准图像进行投影大小校正的步骤包括:

对矩形的两个拼接校准图像进行纵向对齐,调整两个矩形的拼接校准图像的纵向宽度,直至两个拼接校准图像的两个横向边界对齐且平行;

对矩形的两个拼接校准图像进行横向对齐,调整两个矩形的拼接校准图像的横向长度,直至两个拼接校准图像的两个纵向边界距离投影拼接线距离相等,其中所述投影拼接线为两个拼接校准图像无缝拼接后的拼接线。

3.如权利要求2所述的基于大小校正的投影方法,其特征在于,所述调整两个矩形的拼接校准图像的纵向宽度,直至两个拼接校准图像的两个横向边界对齐且平行的步骤,包括:

以两个拼接校准图像的投影拼接线的垂直平分线为分割线,将两个矩形的拼接校准图像分为两个横向区域;

基于摄像头确定两个横向区域中距离垂直平分线距离较近的横向边界,以两个横向区域中较近横向边界为基准,将两个横向区域中较远横向边界向较近横向边界靠近,直至两个拼接校准图像的两个横向边界对齐且平行。

4.如权利要求2或3所述的基于大小校正的投影方法,其特征在于,所述调整两个矩形的拼接校准图像的横向长度,直至两个拼接校准图像的两个纵向边界距离投影拼接线距离相等的步骤,包括:

以两个拼接校准图像的投影拼接线为中心线,将两个矩形的拼接校准图像分为两个纵向区域;

基于摄像头确定两个纵向区域中距离中心线距离较近且不与中心线重合的纵向边界,以两个纵向区域中较近纵向边界为基准,将两个纵向区域中较远纵向边界向中心线靠近,直至两个拼接校准图像的两个纵向边界距离中心线距离相等。

5.如权利要求4所述的基于大小校正的投影方法,其特征在于,

所述基于摄像头拍摄拼接校准图像的采集图像,确定两个拼接校准图像的位置关系的步骤包括:

对摄像头拍摄拼接校准图像的采集图像进行特征分析,检测两个拼接校准图像是否存在重叠区域;

若两个拼接校准图像存在重叠区域,则所述位置关系为相交;若两个拼接校准图像不存在重叠区域,则所述位置关系为相离;若没出现相交或者相离现象,则判定两个拼接校准图像相切;

所述根据所述位置关系,调整两个光机的投射夹角角度,直至两个拼接校准图像无缝拼接的步骤包括:

若所述位置关系为相离时,调小两光机的投射夹角角度;若所述位置关系为相交时,调大两光机的投射夹角角度;若所述位置关系为相切,则判定所述拼接校准图像相对两纵向边界重合;

在夹角调整过程中,基于边缘识别算法,判断所述拼接校准图像相对两纵向边界是否重合;若两所述纵向边界重合,则判定两个拼接校准图像无缝拼接,停止两个光机转动。

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