[发明专利]一种基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法在审

专利信息
申请号: 202011404211.3 申请日: 2020-12-05
公开(公告)号: CN112581594A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 田泽;陈佳;吴晓成;李冲;许宏杰;姜丽云 申请(专利权)人: 西安翔腾微电子科技有限公司
主分类号: G06T15/40 分类号: G06T15/40;G06T15/00
代理公司: 西安匠成知识产权代理事务所(普通合伙) 61255 代理人: 商宇科
地址: 710054 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 glpolygonoffset gpu 多边形 深度 偏移 计算方法
【权利要求书】:

1.一种基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:

1)输入基本图元,判断基本图元是否为三角形;所述基本图元包括了点、线、三角形;若判断基本图元不是三角形,则重复步骤1);若判断基本图元是三角形,则进入下一步;

2)根据步骤1)输入的基本图元的绘制面,获取三角形的绘制模式;所述三角形的绘制模式包括点画模式、线画模式和填充模式;

3)判断绘制模式下对应的偏移计算是否使能;判断顺序依次为点画模式、线画模式、填充模式;

4)计算多边形的最大深度斜率m;

5)获取深度偏移因子factor和单位units;

6)赋值能够产生可解析区别的窗口坐标深度值的最小值r;

7)计算三角形的偏移深度;

8)计算偏移后深度值并截取为最终深度值。

2.根据权利要求1所述的基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法,其特征在于:所述步骤2)中的绘制面包括正面和背面。

3.根据权利要求2所述的基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法,其特征在于:所述步骤3)包括:

3.1)判断绘制模式为点画模式

当绘制模式为点画模式,判断点画的偏移计算是否使能,如果使能,进入步骤4);如果不使能,本方法结束;当绘制模式不为点画模式,进入步骤3.2);

3.2)判断绘制模式为线画模式

当绘制模式为线画模式,判断线画的偏移计算是否使能,如果使能,进入步骤4);如果不使能,本方法结束;当绘制模式不为线画模式,进入步骤3.3);

3.3)当绘制模式不为线画模式,判断填充的偏移计算是否使能,如果使能,进入步骤4);如果不使能,本方法结束。

4.根据权利要求3所述的基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法,其特征在于:所述步骤4)包括:

4.1)转换三角形三个顶点坐标数据类型

根据输入的三角形三个顶点坐标转换(x,y,z)的数据类型,x和y坐标转换为1-15-16类型,z坐标转换为0-32类型;

所述1-15-16表示1位符号位、15位整数位、16位小数位的数据类型,0-32表示32位纯小数的数据类型;

4.2)计算三角形面积

根据转换后三角形三个顶点坐标计算三角形的面积,面积的数据类型为1-31-32;

所述1-31-32表示1位符号位、31位整数位、32位小数位的数据类型;

4.3)判断三角形面积

如果三角形面积为0,那么m=0xffffffff;否则,进入步骤4.4);

所述m表示多边形的最大深度斜率;

4.4)判断z值

判断是否有两个点的z值相等,如果相等,则m=0;否则进入步骤4.5);

4.5)计算偏导

分别计算z关于x的偏导A和z关于y的偏导B,并且计算偏导A、偏导B和三角形面积的绝对值;

4.6)计算m

判断偏导A的绝对值是否大于偏导B的绝对值,如果大于,m等于偏导A的绝对值除以三角形面积的绝对值;否则,m等于偏导B的绝对值除以三角形面积的绝对值。

5.根据权利要求4所述的基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法,其特征在于:所述步骤5)为:

获取深度偏移因子factor和单位units,并将偏移因子factor转换为1-15-16格式,将单位units转换为1-23-8格式;

所述1-23-8格式表示1位符号位、23位整数位、8小数位的数据类型。

6.根据权利要求5所述的基于glPolygonOffset的GPU多边形深度偏移的计算方法,其特征在于:所述步骤6)为:

赋值能够产生可解析区别的窗口坐标深度值的最小值r,设置r值等于0x100,其中r值的数据格式是0-32格式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安翔腾微电子科技有限公司,未经西安翔腾微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011404211.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top