[发明专利]发送方法、发送装置和集成电路在审

专利信息
申请号: 202011405246.9 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN112583757A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 黄磊;浦部嘉夫;M.H.C.西姆 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H04L27/26 分类号: H04L27/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邸万奎
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发送 方法 装置 集成电路
【权利要求书】:

1.一种发送方法,包括:

生成包括用于数据字段的多个OFDM码元的信号,其中,所述多个OFDM码元中的最后一个OFDM码元被划分为四个段,所述四个段分别以四个边界结束,并且基于向所述最后一个OFDM码元的所述四个边界中的一个添加的预FEC填充比特和在所述最后一个OFDM码元的剩余段中添加的后FEC填充比特来生成所述信号,并且四个可能边界中的所述一个由公共填充因子值表示;以及

发送所述信号,

其中,所述公共填充因子值是多个用户中具有最长分组持续时间的用户的填充因子值,所述公共填充因子值是基于所述多个用户的填充因子值和所述多个用户的用于所述数据字段的OFDM码元的数目来确定的。

2.根据权利要求1所述的发送方法,其中,基于所确定的公共填充因子值,为所述多个用户中的每个确定所述预FEC填充比特的数目。

3.根据权利要求1所述的发送方法,其中,使用二进制卷积码(BCC)或低密度奇偶校验(LDPC)对所述数据字段中的信息比特和预FEC填充比特进行编码。

4.根据权利要求1所述的发送方法,其中,所述数据字段包括信息比特,基于所述信息比特确定用于所述多个用户中的每个的填充因子值。

5.根据权利要求1所述的发送方法,其中,基于所述公共填充因子值确定所述后FEC填充比特的数目。

6.根据权利要求1所述的发送方法,其中,

当所述多个用户被分组为第一组和第二组并且所述第二组具有比所述第一组更短的分组持续时间时,

朝向用于所述第一组的所述信号中的所述最后一个OFDM码元的所述四个边界之一添加所述预FEC填充比特;以及

朝向除所述最后一个OFDM码元之外的OFDM码元的所述四个边界之一添加所述预FEC填充比特,并且所述预FEC填充比特未被包括在用于所述第二组的所述信号中的所述最后一个OFDM码元中。

7.根据权利要求1所述的发送方法,其中,所述信号包括指示最终公共填充因子值的非传统前导码,所述最终公共填充因子值是基于所述公共填充因子值计算的,以及

所述数据是基于所述最终公共填充因子值而解码的。

8.一种发送装置,包括:

电路,生成包括用于数据字段的多个OFDM码元的信号,其中,所述多个OFDM码元中的最后一个OFDM码元被划分为四个段,所述四个段分别以四个边界结束,并且基于向所述最后一个OFDM码元的所述四个边界中的一个添加的预FEC填充比特和在所述最后一个OFDM码元的剩余段中添加的后FEC填充比特来生成所述信号,并且四个可能边界中的所述一个由公共填充因子值表示;以及

发送器,发送所述信号,

其中,所述公共填充因子值是多个用户中具有最长分组持续时间的用户的填充因子值,所述公共填充因子值是基于所述多个用户的填充因子值和所述多个用户的用于所述数据字段的OFDM码元的数目来确定的。

9.根据权利要求8所述的发送装置,其中,基于所确定的公共填充因子值,为所述多个用户中的每个确定所述预FEC填充比特的数目。

10.根据权利要求8所述的发送装置,其中,使用二进制卷积码(BCC)或低密度奇偶校验(LDPC)对所述数据字段中的信息比特和所述预FEC填充比特进行编码。

11.根据权利要求8所述的发送装置,其中,所述数据字段包括信息比特,基于所述信息比特确定用于所述多个用户中的每个的填充因子值。

12.根据权利要求8所述的发送装置,其中,基于所述公共填充因子值确定所述后FEC填充比特的数目。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011405246.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top