[发明专利]一种漫反射激光冷却装置

权利要求书

1.一种漫反射激光冷却装置，其特征在于，包括微波腔体、冷原子团以及镀银层；

所述镀银层设置在所述微波腔体的内壁上，所述冷原子团设置在所述微波腔体的中部，所述微波腔体的顶部设置有两个第一冷却光注光孔，所述微波腔体的底部设置有两个第二冷却光注光孔，两个所述第一冷却光注光孔间的连线与两个所述第二冷却光注光孔间的连线垂直；

冷却光在注入进微波腔体前被等功率的分为四束，其中两束光以一定发散角从微波腔体下端盖方向向上地注入微波腔内，另外两束光与其位置垂直地，同样以一定发散角地从微波腔体上端盖方向向下地注入微波腔体内；

其中：

所述微波腔体包括柱形微波腔筒、微波腔上端盖和微波腔下端盖，所述微波腔上端盖和所述微波腔下端盖分别设置在所述柱形微波腔筒的顶部和底部，与所述微波腔体围成密封腔体，两个所述第一冷却光注光孔设置在所述微波腔上端盖上，两个第二冷却光注光孔设置在所述微波腔下端盖上；

所述镀银层包括腔筒磨砂镀银层、上端盖高抛光镀银层和下端盖高抛光镀银层，所述腔筒磨砂镀银层、所述上端盖高抛光镀银层和所述下端盖高抛光镀银层分别设置在所述柱形微波腔筒的内壁、所述微波腔上端盖的下表面和所述微波腔下端盖的上表面，并围成密封腔体，两个所述第一冷却光注光孔贯穿所述上端盖高抛光镀银层，两个所述第二冷却光注光孔贯穿所述下端盖高抛光镀银层。

2.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，所述柱形微波腔筒的高度与所述微波腔上端盖以及所述微波腔下端盖的直径相同。

3.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，所述腔筒磨砂镀银层的漫反射率大于等于97％，所述上端盖高抛光镀银层和所述下端盖高抛光镀银层的镜面反射率大于等于97％。

4.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，所述腔筒磨砂镀银层、所述上端盖高抛光镀银层和所述下端盖高抛光镀银层在所述柱形微波腔筒的内壁、所述微波腔上端盖的下表面和所述微波腔下端盖的上表面上均匀设置。

5.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，两个所述第一冷却光注光孔沿所述微波腔体轴向中心线对称设置。

6.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，两个所述第二冷却光注光孔沿所述微波腔体轴向中心线对称设置。

7.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，所述微波腔体的中心线贯穿所述冷原子团的球心，所述冷原子团与所述微波腔上端盖和所述微波腔下端盖间的距离相等。

8.根据权利要求1所述的漫反射激光冷却装置，其特征在于，所述微波腔体为圆柱空心结构。