[发明专利]感应加热线圈及使用其的单晶制造装置有效
| 申请号： | 202011406603.3 | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN112921394B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 铃木优作;杉田圭谦;佐川泰之;下村库一 | 申请（专利权）人： | 胜高股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B13/20 | 分类号： | C30B13/20;C30B29/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张泽洲;司昆明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 感应 加热 线圈 使用 制造 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种感应加热线圈，前述感应加热线圈用于基于悬浮区熔法的单晶的制造，其特征在于，
具备感应加热线圈主体、设置于前述感应加热线圈主体的上表面的异物捕获夹具。
2.如权利要求1所述的感应加热线圈，其特征在于，
前述异物捕获夹具是具有形成有凹部或凸部的上表面的圆环状的部件。
3.如权利要求2所述的感应加热线圈，其特征在于，
前述凹部为环状的槽或多个孔，前述凸部为环状的突出部。
4.如权利要求1至3中任一项所述的感应加热线圈，其特征在于，
在前述感应加热线圈主体的上表面形成有前述异物捕获夹具嵌合的嵌合部。
5.如权利要求4所述的感应加热线圈，其特征在于，
前述嵌合部形成于从前述感应加热线圈主体的内周端至线圈宽度的50%的位置的范围内。
6.一种单晶制造装置，其特征在于，
前述单晶制造装置具备将原料杆能够旋转及升降地支承的上轴、配置于前述上轴的下方而将籽晶能够旋转及升降地支承的下轴、将前述原料杆加热的权利要求1至5中任一项所述的感应加热线圈。
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