[发明专利]一种低折光高清洁牙膏用摩擦型二氧化硅及其制备方法

权利要求书

1.一种低折光高清洁牙膏用摩擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、取水玻璃加水稀释溶解陈化5-6h，然后加水分别配置成浓度为1.2-1.4mol/L和0.6-0.8mol/L的水玻璃溶液；

S2、分别配置浓度为4-5mol/L的硫酸溶液和质量百分数为5-6％的硫酸钠溶液；

S3、向反应罐中加入步骤S1制得的浓度为1.2-1.4mol/L的水玻璃溶液，然后加入硫酸钠，升温加热至60-65℃，并开启搅拌装置搅拌；

S4、继续向反应罐中滴加步骤S2制得的硫酸溶液，当溶液pH值为9.5-10.5时停止滴加硫酸溶液，然后向反应体系中加入步骤S2制得的硫酸钠溶液，并降温至50-55℃；

S5、继续向反应体系中同时滴加步骤S1制得的浓度为0.6-0.8mol/L的水玻璃溶液和步骤S2制得的硫酸溶液，控制反应过程中的pH值为9.5-10.5，当水玻璃溶液滴加完毕后，继续滴加硫酸溶液至反应体系中的pH值为4.0-4.2，搅拌陈化0.5h，制得二氧化硅料浆；

S6、将步骤S5制得的二氧化硅料浆进行压滤洗涤，制得二氧化硅滤饼，然后将二氧化硅滤饼进行干燥破碎，即得；

所述步骤S3中水玻璃溶液的加入量为3-4m³；硫酸钠的加入量为400-450kg；搅拌装置的搅拌频率为35-40Hz。

2.根据权利要求1所述的低折光高清洁牙膏用摩擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的水玻璃的模数为3.3-3.5。

3.根据权利要求1所述的低折光高清洁牙膏用摩擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述步骤S4中硫酸溶液的滴加速度为1.5-1.8m³/h；硫酸钠溶液的加入量为6-8m³。

4.根据权利要求1所述的低折光高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述步骤S5中水玻璃溶液的加入量为14-16m³，滴加速度为12-13m³/h；硫酸溶液的滴加速度为1.5-1.8m³/h。

5.一种根据权利要求1-4任一项所述的低折光高清洁牙膏用摩擦型二氧化硅的制备方法制得的低折光高清洁牙膏用摩擦型二氧化硅。