[发明专利]一种集成微透镜结构的雪崩光电二极管在审
申请号: | 202011410152.0 | 申请日: | 2020-12-03 |
公开(公告)号: | CN112531068A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 段晓峰;李珂;李宫清;黄永清;刘凯;王俊;杨一粟;蔡世伟 | 申请(专利权)人: | 北京邮电大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0232 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 蒋娟 |
地址: | 100876 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 集成 透镜 结构 雪崩 光电二极管 | ||
1.一种集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,包括:集成微透镜结构的衬底层和多台面的雪崩光电二极管;
所述衬底层的第一表面刻蚀为微透镜结构,所述衬底层的第二表面刻蚀有P型接触层,所述P型接触层表面设有P型电极;
所述多台面的雪崩光电二极管位于所述衬底层上方,从下至上依次分布吸收层、P型场控制层、倍增层、N型场控制层、边缘场缓冲层、N型接触层和N型电极。
2.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述微透镜的面积与所述吸收层的面积的比值范围为25~40。
3.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述微透镜的焦距可调。
4.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述微透镜的焦距通过如下公式确定:
其中,f为所述微透镜的焦距;n为衬底厚度;R为曲率半径。
5.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述微透镜的中心与所述第二台面下方区域的中心对齐。
6.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述微透镜结构为凸透镜结构。
7.根据权利要求6所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述微透镜表面设有增透膜。
8.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述衬底层集成汇聚光束作用的微纳结构。
9.根据权利要求1所述的集成微透镜结构的雪崩光电二极管,其特征在于,所述多台面的雪崩光电二极管包括:第一台面和第二台面;
所述第一台面位于所述P型接触层的上方,所述第一台面从下至上依次包括:吸收层、P型场控制层、倍增层、N型场控制层和边缘场缓冲层;
所述第二台面位于所述N型场控制层上方,所述第二台面从下至上依次包括:N型接触层和N型电极。
10.根据权利要求9所述的雪崩光电二极管,其特征在于,所述吸收层、所述P型场控制层和所述倍增层、构成第一子台面;所述N型场控制层和所述边缘场缓冲层构成第二子台面。
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