[发明专利]一种基于自校准算法的多端口射频微波校准方法

权利要求书

1.一种基于自校准算法的多端口射频微波校准方法，其特征在于：包括以下步骤：

设置矢量网络分析仪的初始参数；

设置校准标准件的前置参数；所述校准标准件包括反射开路、反射短路、匹配负载和双端口校准标准件直通；

依次连接所述反射开路、所述反射短路、所述匹配负载和所述双端口校准标准件直通，采集所述反射开路、所述反射短路、所述匹配负载和所述双端口校准标准件直通的平行向测试S参数、直角向或差分端口测试S参数；

基于所述前置参数和所述平行向测试S参数获取平行向修正参数，并计算所述反射开路、所述反射短路和所述匹配负载的反射系数；

基于所述反射系数和所述直角向或差分端口测试S参数获取直角向或差分端口修正参数；

基于所述平行向修正参数和所述直角向或差分端口修正参数生成误差修正矩阵；

基于所述误差修正矩阵和所述矢量网络分析仪完成对待测多端口射频微波器件的校准；

采用LRRM算法，基于所述前置参数和所述平行向测试S参数获取平行向修正参数；

所述LRRM算法中，采用基于10项误差模型的校准算法；

采用SOLR算法，基于所述反射系数和所述直角向或差分端口测试S参数获取直角向或差分端口修正参数；

所述SOLR算法中，采用基于10项误差模型的校准算法。

2.根据权利要求1所述的基于自校准算法的多端口射频微波校准方法，其特征在于：所述初始参数包括起止频点、频率步进、输出功率、中频带宽和平均次数。

3.根据权利要求1所述的基于自校准算法的多端口射频微波校准方法，其特征在于：所述前置参数包括平行向双端口校准标准件直通的延时和插入损耗、匹配负载的直流电阻。

4.根据权利要求1所述的基于自校准算法的多端口射频微波校准方法，其特征在于：所述校准标准件的衬底材料采用纯度在99.6％以上的Al₂O₃陶瓷或熔融石英；使用NiCr或TaN，以溅射工艺形成电阻层100nm～200nm。

5.根据权利要求1所述的基于自校准算法的多端口射频微波校准方法，其特征在于：所述匹配负载的直流电阻控制在50±0.1Ω范围内；所述双端口校准标准件直通的特征阻抗为50±0.1Ω，使用溅射工艺形成3～5μm金层形成微带线。

6.根据权利要求1所述的基于自校准算法的多端口射频微波校准方法，其特征在于：所述反射开路、所述反射短路、所述匹配负载和所述双端口校准标准件直通的物理尺寸和加工工艺相同。