[发明专利]成像分析数据处理方法以及成像分析数据处理装置在审

申请号：	202011411547.2	申请日：	2020-12-04
公开（公告）号：	CN113049670A	公开（公告）日：	2021-06-29
发明（设计）人：	押川伦宪	申请（专利权）人：	株式会社岛津制作所
主分类号：	G01N27/64	分类号：	G01N27/64
代理公司：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277	代理人：	刘新宇
地址：	日本***	国省代码：	暂无信息
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：
搜索关键词：	成像分析数据处理方法以及装置
钻瓜网技术展会专利词库专利权人专利榜在售专利公布日期热门专利

【权利要求书】：

1.一种成像分析数据处理方法，包括以下步骤：

准备第一成像分析数据，所述第一成像分析数据是将通过在试样的分析对象区域内的多个测定点的每个测定点处执行第一规定分析所获取到的所述试样中含有的目标物质的测定数据与该测定点的空间位置信息建立关联而得到的数据；

准备第二成像分析数据，所述第二成像分析数据是将通过在所述多个测定点的每个测定点处执行第二规定分析所获取到的所述试样中含有的基准物质的测定数据与该测定点的空间位置信息建立关联而得到的数据，其中，所述第二规定分析的分析方法及测定条件中的至少一方与所述第一规定分析不同；以及

基于在所述多个测定点的每个测定点处获取到的所述基准物质的测定数据，将该测定点处的所述目标物质的测定数据进行标准化。

2.一种成像分析数据处理装置，具备：

存储部，其保存有第一成像分析数据和第二成像分析数据，其中，所述第一成像分析数据是将通过在试样的分析对象区域内的多个测定点的每个测定点处执行第一规定分析所获取到的所述试样中含有的目标物质的测定数据与该测定点的空间位置信息建立关联而得到的数据，所述第二成像分析数据是将通过在所述多个测定点的每个测定点处执行第二规定分析所获取到的所述试样中含有的基准物质的测定数据与该测定点的空间位置信息建立关联而得到的数据，其中，所述第二规定分析的分析方法及测定条件中的至少一方与所述第一规定分析不同；以及

标准化执行部，其基于在所述多个测定点的每个测定点处获取到的所述基准物质的测定数据，将该测定点处的所述目标物质的测定数据进行标准化。

3.根据权利要求2所述的成像分析数据处理装置，其中，

所述第一成像分析数据是在所述多个测定点的每个测定点处获取到的谱数据。

4.根据权利要求3所述的成像分析数据处理装置，其中，

所述谱数据是质谱数据。

5.根据权利要求2所述的成像分析数据处理装置，其中，

所述第二成像分析数据是在所述多个测定点的每个测定点处获取到的谱数据。

6.根据权利要求5所述的成像分析数据处理装置，其中，

所述标准化执行部使用所述谱数据所包含的峰中的一个峰的强度来将所述目标物质的测定数据进行标准化。

7.根据权利要求4所述的成像分析数据处理装置，其中，

还具备标准化方法选择部，所述标准化方法选择部用于使使用者选择提取离子电流标准化和总离子电流标准化中的任一个，

所述标准化执行部利用所述选择出的方法将所述目标物质的测定数据进行标准化。