[发明专利]米粒残缺程度现场分析系统及方法

权利要求书

1.一种米粒残缺程度现场分析系统，其特征在于，所述系统包括：

残缺判断设备，与外形分析机构连接，用于将残缺程度超限的米粒颗粒作为残缺米粒，将残缺程度未超限的米粒颗粒作为非残缺米粒；

鱼眼捕获机构，设置在米仓内部且位于米仓顶部的中央位置，用于对米仓的米粒堆放环境执行图像捕获操作，以获得并输出米粒堆放图像；

图像渲染设备，设置在米仓的电控箱内，与所述鱼眼捕获机构连接，用于对接收到的米粒堆放图像执行图像渲染处理，以获得并输出相应的当前渲染图像；

伽马校正设备，与所述图像渲染设备连接，用于对接收到的当前渲染图像执行伽马校正处理，以获得并输出相应的伽马校正图像；

内容丰富设备，设置在米仓的电控箱内，与所述伽马校正设备连接，用于对接收到的伽马校正图像执行双线性插值处理，以获得并输出相应的内容处理图像；

亮度辨别机构，设置在米仓的电控箱内，与所述内容丰富设备连接，用于将所述内容处理图像中亮度值在米粒亮度上限数值和米粒亮度下限数值之间的像素作为米粒像素；

颗粒检测设备，与所述亮度辨别机构连接，用于将所述内容处理图像中的各个米粒像素组合成多个米粒颗粒分别对应的米粒子图像；

外形分析机构，与所述颗粒检测设备连接，用于基于米粒基准图案对每一个米粒子图像执行外形比对，以判断每一个米粒子图像对应的米粒颗粒的残缺程度；

信息汇总设备，与所述残缺判断设备连接，用于统计所述多个米粒颗粒中残缺米粒总数占据所述多个米粒颗粒总数的百分比，并将所述百分比作为参考残缺百分比输出；

其中，基于米粒基准图案对每一个米粒子图像执行外形比对，以判断每一个米粒子图像对应的米粒颗粒的残缺程度包括：每一个米粒子图像与米粒基准图案的相似度越低，所述米粒子图像对应的米粒颗粒的残缺程度越高。

2.如权利要求1所述的米粒残缺程度现场分析系统，其特征在于：

所述亮度辨别机构还用于将所述内容处理图像中亮度值在米粒亮度上限数值和米粒亮度下限数值之外的像素作为非米粒像素。

3.如权利要求2所述的米粒残缺程度现场分析系统，其特征在于，所述系统还包括：

数据发送机构，设置在米仓的外部，与所述信息汇总设备连接，用于将接收到的参考残缺百分比通过无线通信链路发送给米仓的管理服务器。

4.如权利要求3所述的米粒残缺程度现场分析系统，其特征在于，所述系统还包括：

CF存储卡，设置在米仓的电控箱内，与所述亮度辨别机构连接，用存储所述米粒亮度上限数值和所述米粒亮度下限数值。

5.如权利要求4所述的米粒残缺程度现场分析系统，其特征在于：

在所述CF存储卡中，所述米粒亮度上限数值和所述米粒亮度下限数值的取值都在150-225之间。