[发明专利]一种实体化Offner光路结构光谱成像仪光学系统在审

专利信息
申请号: 202011414732.7 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112577601A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 张周锋;于涛;李海巍;李思远;王飞橙;胡炳樑 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王凯敏
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 实体化 offner 结构 光谱 成像 光学系统
【权利要求书】:

1.一种实体化Offner光路结构光谱成像仪光学系统,其特征在于:

包括入射狭缝(1)和实体化玻璃(A);

根据设计的光学系统光路,在实体玻璃(A)的外表面顺序依次加工有第一侧面(A01)、第二侧面(A02)、第三侧面(A03)、第四侧面(A04)、第五侧面(A05)、第六侧面(A06)和第七侧面(A07);

其中,

第三侧面(A03)、第四侧面(A04)和第五侧面(A05)均为球面;第二侧面(A02)和第六侧面(A06)均为平面;

在第二侧面(A02)、第三侧面(A03)、第五侧面(A05)和第六侧面(A06)上均镀有内反射膜,分别形成第一折轴反射镜(2)、第一球面反射镜(3)、第二球面反射镜(5)和第二折轴反射镜(6);

在第四侧面(A04)上加工有凸面光栅,并镀有内反射膜;

入射狭缝(1)设置在第一侧面(A01)附近;

入射光束经过入射狭缝(1)后从第一侧面(A01)进入实体化玻璃(A),经第一折轴反射镜(2)、第一球面反射镜(3)、凸面光栅(4)、第二球面反射镜(5)、第二折轴反射镜(6)后,从实体化玻璃(A)的第七侧面(A07)出射,成像于最佳像面位置(7)处。

2.根据权利要求1所述的实体化Offner光路结构光谱成像仪光学系统,其特征在于:第一侧面(A01)和第七侧面(A07)上均镀有增透膜。

3.根据权利要求1或2所述的实体化Offner光路结构光谱成像仪光学系统,其特征在于:实体化玻璃(A)为石英玻璃。

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