[发明专利]一种氧化钇弥散强化铜的制备方法在审
| 申请号： | 202011415658.0 | 申请日： | 2020-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN112391550A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 李亮;李响;张伟;董龙龙;刘跃;霍望图;张于胜 | 申请（专利权）人： | 西安稀有金属材料研究院有限公司;西北有色金属研究院 |
| 主分类号： | C22C1/05 | 分类号： | C22C1/05;C22C1/10;C22C9/00;C22C32/00;B22F3/105 |
| 代理公司： | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人： | 马小燕 |
| 地址： | 710016 陕西省西安市西安经济*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化钇 弥散 强化 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种氧化钇弥散强化铜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
步骤一、对铜粉进行氧化处理，在铜粉表面生成氧化膜，得到氧化后的铜粉；
步骤二、将步骤一中得到的氧化后的铜粉与氧化钇进行两步高能球磨处理，然后进行真空干燥，得到混合粉末；
步骤三、将步骤二中得到的混合粉末进行热还原处理，得到复合粉末；
步骤四、将步骤三中得到的复合粉末进行放电等离子烧结，得到氧化钇弥散强化铜。
2.根据权利要求1所述的一种氧化钇弥散强化铜的制备方法，其特征在于，步骤一中所述氧化处理的温度为250℃~450℃。
3.根据权利要求1所述的一种氧化钇弥散强化铜的制备方法，其特征在于，步骤二中所述氧化钇与步骤一中铜粉的质量之比为1：200~5.92：200。
4.根据权利要求1所述的一种氧化钇弥散强化铜的制备方法，其特征在于，步骤二中所述两步高能球磨处理采用的转速均为450rpm。
5.根据权利要求1所述的一种氧化钇弥散强化铜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述放电等离子烧结的温度为850℃~1050℃，压力为40MPa~160MPa，保温时间为5min~30min。
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