[发明专利]一种拉伸非敏感的规则网状导体及制备方法有效
申请号: | 202011418681.5 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN112499620B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 张跃;高放放;廖庆亮;高丽 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C01B32/168 | 分类号: | C01B32/168;C01B32/15;C01B32/194;C01B32/90;B22F1/054;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 拉伸 敏感 规则 网状 导体 制备 方法 | ||
1.一种拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
S1、通过真空辅助限域法将低维导电材料抽滤到滤膜上,形成网状图案化导体,所述滤膜为具有网状图案化的滤膜;所述真空辅助限域法为真空抽滤和图案化模板限域法的结合,即在真空抽滤过程中,气流将低维导电材料限域在网状图案化滤膜的固定位置,即得到网状图案化的导体;
S2、将所述网状图案化导体转移到预拉伸基底上,释放所述预拉伸基底,即得拉伸非敏感的规则网状导体。
2.如权利要求1所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述低维导电材料为金属或合金的纳米线、纳米棒、纳米管、纳米片和纳米颗粒,或碳的纳米管、纳米线、纳米棒、纳米片、纳米颗粒,或石墨烯,或MXene二维材料中的一种或几种。
3.如权利要求1所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,所述方法具体包括:
S1、制备具有网状图案化的滤膜;按比例取100μl银纳米线Ag NWs的乙醇溶液和800μl的无水乙醇均匀混合,然后通过真空抽滤,将Ag NWs抽滤在具有网状图案化的滤膜上;
S2、将抽滤在具有网状图案化滤膜的Ag NWs转移至预拉伸基底上,再释放预拉伸基底,即得拉伸非敏感的规则网状导体。
4.如权利要求1所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,所述方法具体包括:
S1、制备具有网状图案化的滤膜;按比例取100μl二维钛碳化铝Ti3C2Tx MXene水溶液和1000μl的去离子水均匀混合,然后通过真空抽滤,将Ti3C2Tx MXene抽滤在具有网状图案化的滤膜上,形成网状图案化导体;
S2、将抽滤在具有网状图案化滤膜的Ti3C2Tx MXene转移至预拉伸基底上,再释放预拉伸基底,即得拉伸非敏感的规则网状导体。
5.如权利要求1所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,所述方法具体包括:
S1、制备具有网状图案化的滤膜;按比例取100μl碳纳米管的二甲基甲酰胺溶液和700μl的二甲基甲酰胺均匀混合,然后通过真空抽滤,将碳纳米管抽滤在具有网状图案化的滤膜上,形成网状图案化导体;
S2、将抽滤在具有网状图案化滤膜的碳纳米管转移至预拉伸基底上,再释放预拉伸基底,即得拉伸非敏感的规则网状导体。
6.如权利要求3-5任一项所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,所述基底为可拉伸胶带或者可拉伸聚合物。
7.如权利要求3-5任一项所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:
S3、测量在0到80%拉伸应变下所述拉伸非敏感的规则网状导体的电学性能,其电学性能几乎不变。
8.一种拉伸非敏感的规则网状导体,其特征在于,采用如权利要求1-7任一项所述的拉伸非敏感的规则网状导体的制备方法得到。
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