[发明专利]一种多孔氧化铜纳米线材料及其制备方法

权利要求书

1.一种多孔氧化铜纳米线材料，其特征是，包括纯铜基片以及分布在纯铜基片表面的多孔结构，多孔结构边缘、纯铜基片表面均形成有氧化铜纳米线，多孔结构内部形成有氧化铜纳米棒；

该多孔氧化铜纳米线材料的制备方法包括以下步骤：

S101：选取厚度为2-4mm的纯铜基片，将纯铜基片表面用去离子水超声清洗5-10min，然后放置干燥箱在120-150℃条件下干燥3-5min；

S102：将PMMA材料通过超微粉碎机粉碎至平均粒径为0.5-1.5mm的颗粒，将PMMA颗粒平铺在呈水平状态的高压模具内底面；利用刮板将PMMA颗粒平铺均匀后，将干燥后的纯铜基片平放在PMMA颗粒上；

S103：通过高压模具由上而下对纯铜基片施压300-400MPa，施压时间为3h；

S104：将高压后的纯铜基片表面清理后放入丙酮中浸泡溶解PMMA颗粒，浸泡后利用无水乙醇清洗20-30min，得到表面呈多孔状的纯铜基片；

S105：将所得纯铜基片的多孔面朝向放置在空气氛围下，通过保护气体形成气流柱以50-80mL/min的流速吹向多孔面中心，同时通过电加热板直接在300-360℃条件下加热铜基的多孔面3-4h，待冷却至室温后制得多孔氧化铜纳米线产品。

2.根据权利要求1所述的一种多孔氧化铜纳米线材料，其特征是，所述氧化铜纳米线长9-11nm，氧化铜纳米棒长4-7nm，多孔结构的直径为0.5-1.2mm。

3.根据权利要求1所述的一种多孔氧化铜纳米线材料，其特征是，所述纯铜基片的孔隙率为62-75％。

4.根据权利要求1所述的一种多孔氧化铜纳米线材料，其特征是，所述高压模具对纯铜基片施压具体为：初始压强在10min内提升至300MPa，以压强差20MPa、时间间隔15min将初始压强300MPa逐渐提升至终止压强400MPa，然后以逆降方式将终止压强400MPa降至初始压强300MPa。

5.根据权利要求1所述的一种多孔氧化铜纳米线材料，其特征是，所述保护气体为氦气或氖气。