[发明专利]基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量方法及系统

权利要求书

1.一种基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量方法，其特征在于，包括：

步骤S1，将光学载荷通过转接工装固定在微振动激励台上；

步骤S2，在光学载荷安装脚附近粘贴4个微振动传感器，对微振动激励台进行控制；

步骤S3，将光路生成系统安装在高度可调节平台上；

步骤S4，调节平台的高度和光路生成系统中反射镜的方向，使光路生成系统所产生的光线通过平行光管和反射镜垂直射入光学载荷内；

步骤S5，对光学载荷进行自检，确定光学载荷的各项性能符合预设指标；

步骤S6，在没有微振动干扰输入情况下，获取光学载荷的成像性能；

步骤S7，将4个微振动传感器通过电缆连接到微振动激励台控制器上；

步骤S8，设置微振动控制器的控制方式为4点平均控制，使用4点响应的平均值作为控制的反馈输入曲线；

步骤S9，设置需输出微振动干扰信号的相关参数，包括响应量级和响应频率；

步骤S10，微振动激励台输出预设微振动干扰信号，光学载荷在该环境下工作成像，获取其成像性能；

步骤S11，改变微振动干扰信号的量级和频率，得到光学载荷最敏感的频率值和成像符合预设指标的最大振动量级。

2.根据权利要求1所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量方法，其特征在于，所述微振动激励台的最小激励量级为0.2mg，频率范围为5～2000Hz，控制方式包括正弦振动和随机振动。

3.根据权利要求1所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量方法，其特征在于，所述步骤S2中粘贴的4个微振动传感器为激励台控制传感器，其灵敏度为1000mv/g，量级为5g。

4.根据权利要求1所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量方法，其特征在于，所述光学载荷的成像性能包括驱动机构控制精度和相机成像质量。

5.根据权利要求1所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量方法，其特征在于，所述步骤S11中，采用定频振动的方式，然后逐步改变微振动干扰信号的量级和频率。

6.一种基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量系统，其特征在于，包括：

模块M1，将光学载荷通过转接工装固定在微振动激励台上；

模块M2，在光学载荷安装脚附近粘贴4个微振动传感器，对微振动激励台进行控制；

模块M3，将光路生成系统安装在高度可调节平台上；

模块M4，调节平台的高度和光路生成系统中反射镜的方向，使光路生成系统所产生的光线通过平行光管和反射镜垂直射入光学载荷内；

模块M5，对光学载荷进行自检，确定光学载荷的各项性能符合预设指标；

模块M6，在没有微振动干扰输入情况下，获取光学载荷的成像性能；

模块M7，将4个微振动传感器通过电缆连接到微振动激励台控制器上；

模块M8，设置微振动控制器的控制方式为4点平均控制，使用4点响应的平均值作为控制的反馈输入曲线；

模块M9，设置需输出微振动干扰信号的相关参数，包括响应量级和响应频率；

模块M10，微振动激励台输出预设微振动干扰信号，光学载荷在该环境下工作成像，获取其成像性能；

模块M11，改变微振动干扰信号的量级和频率，得到光学载荷最敏感的频率值和成像符合预设指标的最大振动量级。

7.根据权利要求6所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量系统，其特征在于，所述微振动激励台的最小激励量级为0.2mg，频率范围为5～2000Hz，控制方式包括正弦振动和随机振动。

8.根据权利要求6所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量系统，其特征在于，所述模块M2中粘贴的4个微振动传感器为激励台控制传感器，其灵敏度为1000mv/g，量级为5g。

9.根据权利要求6所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量系统，其特征在于，所述光学载荷的成像性能包括驱动机构控制精度和相机成像质量。

10.根据权利要求6所述的基于微振动干扰的光学载荷成像性能测量系统，其特征在于，所述模块M11中，采用定频振动的方式，然后逐步改变微振动干扰信号的量级和频率。