[发明专利]重离子微束辐照装置、系统及控制方法

权利要求书

1.一种重离子微束辐照装置，其特征在于，包括：

调节平台，沿所述重离子束流的入射路径设置，其中，所述调节平台包括：

针孔架，沿所述入射路径设置于所述调节平台上，所述针孔架的针孔轴线与所述入射路径共轴平行，以形成高质量微束；

其中，所述调节平台用于控制所述针孔架的位置，使所述针孔轴线与所述入射路径共轴平行。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述调节平台包括：

横向轨件，平行所述入射路径固定设置，用于固定所述调节平台；

纵向轨件，在俯视角度上，垂直所述入射路径滑动设置于所述横向轨件上，用于沿所述横向轨件作相对滑动；

垂向轨件，在入射束流的角度上，垂直所述入射路径滑动设置于所述纵向轨件上，用于沿所述纵向轨件作相对滑动；

其中，所述垂向轨件、所述纵向轨件和所述横向轨件具有两两相互垂直的关系；所述针孔架滑动设置于所述垂向轨件上。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述调节平台还包括：

垂向轴台，所述垂向轴台外侧面滑动设置于所述纵向轨件上，所述垂向轴台内侧面固定设置所述垂向轨件，以使得所述垂向轨件沿所述纵向轨件作相对滑动；

纵向轴台，所述纵向轴台外侧面滑动设置于所述垂向轨件上，所述纵向轴台内侧面固定设置所述针孔架，以使得所述针孔架沿所述垂向轨件作相对滑动。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，

所述垂向轴台以垂直于所述纵向轨件内侧面的垂向轴心线为转轴进行转动，以使得所述垂向轨件在所述纵向轨件上转动；

所述纵向轴台以垂直于所述垂向轨件内侧面的纵向轴心线为转轴进行转动，以使得所述针孔架在所述垂向轨件上转动。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，

所述垂向轴心线、所述纵向轴心线的交点与所述重离子束流的入射路径与所述针孔轴线的交点重合。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

准直平台，沿所述入射路径固定设置于所述调节平台之前，用于为所述重离子束流进行预准直处理。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述准直平台包括：

准直架，沿所述入射路径设置于所述准直平台上，所述准直架的预准直孔用于对沿所述入射路径入射的重离子束流进行预准直处理。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

样品平台，沿所述入射路径固定设置于所述调节平台之后，用于接收所述高质量微束。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述样品平台包括：

样品架，沿所述入射路径设置于所述样品平台上，所述样品架的内侧面上设置待测样品，所述待测样品用于接收所述高质量微束的辐照。

10.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述样品平台还包括：

探测器，沿所述入射路径滑动设置于所述样品平台上，用于探测所述重离子束流的低能散射能谱分析数据。

11.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

真空室，容置所述调节平台，为所述高质量微束的形成提供真空密封环境。

12.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述针孔架的针孔采用金属作为孔壁材料，所述针孔在垂直于所述入射路径上的孔径为1μm-3μm，所述针孔在所述入射路径上的长度为100μm-300μm。