[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，是通过曝光产生酸、并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：

树脂成分(A1)，具有包含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元(a1)与以下述通式(a10-1)表示的结构单元(a10)；

增塑剂成分(Z)，具有以下述通式(z1-1)表示的结构单元(z1)，不含酸解离性基团，

所述增塑剂成分(Z)的含量相对于所述树脂成分(A1)100质量份为50质量份以下，

固体成分浓度为25质量％以上，

【化1】

式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Ya^x1为单键或2价的连接基团，Wa^x1为可具有取代基的芳香族烃基，n_ax1为1以上的整数，

【化2】

式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Vz⁰为单键或可含杂原子的2价烃基，其中，Vz⁰为可含杂原子的2价烃基的情况下，Vz⁰不含酸解离性基团，Rz⁰为氢原子或以下述通式(z1-r-1)表示的基团，

【化3】

式中，Rz⁰¹是可具有取代基的烃基，Rz⁰²是氢原子或可具有取代基的烃基，Rz⁰¹与Rz⁰²可以相互键合而形成环结构，其中，Rz⁰¹与Rz⁰²不含酸解离性基团，*是键。

2.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述增塑剂成分(Z)的含量相对于所述树脂成分(A1)100质量份为1～30质量份。

3.一种抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，具有：在支承体上使用权利要求1或2所述的抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的工序；将所述抗蚀剂膜曝光的工序；及将所述曝光后的抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案的工序。