[发明专利]光致抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂图案形成方法，包括：

(i)在支承体上使用光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂膜的工序；

(ii)将所述光致抗蚀剂膜曝光的工序；及

(iii)将所述曝光后的光致抗蚀剂膜显影而形成光致抗蚀剂图案的工序，其特征在于，

所述光致抗蚀剂组合物含有：对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂(A)、通过曝光产生酸的产酸剂(B)、可光降解的碱(D1)、溶剂(S)及以下述式(x-1)表示的化合物(X)，

式中，R¹～R⁴分别独立地为羟基或碳数为1～5的烷基，R⁵及R⁶分别独立地为氢、碳数为1～5的烷基或被羟基取代而得的碳数为1～10的烷基，a、b、c及d分别独立地为0～3的整数，e及f分别独立地为1～2的整数，

在所述工序(i)中形成的光致抗蚀剂膜中残留的溶剂的量为910ppm以上。

2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，式中，a、b、c及d为0，e及f为1，R⁵及R⁶分别独立地为氢或-(CH₂)_n-OH，其中，n为1～5的整数。

3.如权利要求1或2所述的光致抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，所述可光降解的碱(D1)是从由以下述式(d1-1)、式(d1-2)及式(d1-3)表示的化合物构成的组中选择的1种以上的化合物，

式中，Rd¹～Rd⁴是可具有取代基的环状基团、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基，其中，在式(d1-2)中的Rd²中，与S原子邻接的碳原子上未键合氟原子，Yd¹为单键或2价的连接基团，m为1以上的整数，且M^m+分别独立地为m价的有机阳离子。

4.如权利要求1或2所述的光致抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂(A)包含具有由下述式(a10-1)表示的结构单元的高分子化合物，

式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Ya^x1为单键或2价的连接基团，Wa^x1为(n_ax1+1)价的芳香族烃基，n_ax1为1～3的整数。