[发明专利]一种用于非理想切割钻石的镶嵌方法有效

专利信息
申请号: 202011425956.8 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112617368B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 徐婧竞;张荣红;杨少武 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: A44C17/04 分类号: A44C17/04;A44C17/02
代理公司: 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 代理人: 王佩
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 理想 切割 钻石 镶嵌 方法
【说明书】:

发明提供一种用于非理想切割钻石的镶嵌方法,涉及钻石镶嵌技术领域;镶嵌方法包括:S1、镶口模型的制作:T1、制作金属基底,并根据钻石的形状和尺寸,在金属基底上制作与钻石形状和尺寸相匹配的镂空;T2、在金属基底的内壁上制作侧部金属作用面;T3、在相邻金属作用面之间的镂空处制作金属镶嵌柱,使得金属镶嵌柱与金属基底联集;T4、在金属基底的底部制作底部金属层和金属柱,使得底部金属层通过金属柱与金属基底联集;在底部金属层的顶部制作底部金属作用面,得到镶口模型;S2、镶口模具的制作;S3、镶口的浇注;S4、第一次打磨抛光;S5、钻石的镶嵌;可以起到收集、利用钻石漏光的作用,有效地增强非理想切割钻石的闪烁、明亮和火彩。

技术领域

本发明涉及钻石镶嵌技术领域,尤其涉及一种用于非理想切割钻石的镶嵌方法。

背景技术

根据美国珠宝学院(以下简称GIA)针对钻石切工的分级标准,市面上的钻石被划分为以下五个标准:1、理想切工(EXCELLENT):理想切工使钻石完美反射所有进入钻石的光线。市场中只有3%的钻石具有此切工标准,价高;2、非常好切工(VERY GOOD):使钻石反射出和标准等级切工的光芒,大约占市场的15%;3、好切工(GOOD):使钻石反射了大部分进入钻使内部的光,大约占市场的25%;4、一般切工(FAIR):大约占市场的35%,仍然是优质钻石,但是一般切工加工的钻石反射的光线不及Good级切工;5、差切工(POOR):这包含所有没有符合一般切工标准的钻石,这些钻石的切工要么深而窄要么浅而宽易于让光线从边部或底部漏出。非理想切割钻石即为GIA钻石切工标准中的Very good、Good、Fair、Poor类的钻石。

为了保证对钻石原料(原矿石)的利用率,在市场中97%的钻石都为非理想切割钻,是钻石交易市场中的主体。根据钻石亭部的深浅,非理想切割钻石分为“太深”与“太浅”两大类。相比于理想切割钻石,切割太深的钻石可以提高钻石原石的利用率;切割太浅的钻石,在同样克拉重量的基础上,可获得更大的钻石台面,形成“大钻石”的视觉效果。非理想切工钻石根据切工等级依次都存在漏光问题,不能达到完美的钻石全内反射效果。但是,非理想切工钻石根据切工等级依次都存在漏光问题,不能达到完美的钻石全内反射效果。

现有的钻石镶嵌方法,例如包镶、带托爪镶、无托爪镶、逼镶(夹镶),都不能改善、弥补非理想切割钻石闪烁弱、不明亮和火彩不足的缺陷。

发明内容

本发明旨在解决现有的非理想切割钻石镶嵌方法加工而成的钻石产品中因钻石亭部漏光导致其闪烁弱、不明亮或火彩不足的技术问题。

本发明的实施例提供一种用于非理想切割钻石的镶嵌方法,包括如下步骤:

S1、镶口模型的制作:

T1、制作金属基底,并根据钻石的形状和尺寸,在所述金属基底上制作与所述钻石形状和尺寸相匹配的镂空;

T2、在所述金属基底的内壁上制作侧部金属作用面;

T3、在相邻所述金属作用面之间的镂空处制作金属镶嵌柱,使得所述金属镶嵌柱与所述金属基底联集;

T4、在所述金属基底的底部制作底部金属层和金属柱,使得所述底部金属层通过所述金属柱与所述金属基底联集;在所述底部金属层的顶部制作底部金属作用面,得到所述镶口模型;

S2、镶口模具的制作:根据步骤S1中得到的镶口模型,采用3D喷蜡打印机制作镶口模具;

S3、镶口的浇注:根据步骤S2中得到的镶口模具进行浇注,得到一体成型的镶口;

S4、第一次打磨抛光:对步骤S3中得到的镶口进行打磨抛光;

S5、钻石的镶嵌:将所述钻石镶嵌在所述镶口内,使得所述钻石与所述金属镶嵌柱固定。

在一些优选地实施例中,所述底部金属作用面与所述金属基底的上端面平行。

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