[发明专利]一种用于手机盖板的彩色不导电真空电镀膜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于手机盖板的彩色不导电真空电镀膜，其特征在于，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有底漆层、缓冲层、NCVM层、彩色层与面漆层；

所述缓冲层为单晶硅层、氮化物层、氮氧化物层或氧化物层；所述彩色层是由第一折射膜层与第二折射膜层交替层叠构成的复合膜层，彩色层的层数为2～4层；第一折射膜层的折射率大于第二折射膜层。

2.根据权利要求1所述的一种用于手机盖板的彩色不导电真空电镀膜，其特征在于，所述缓冲层的氮化物为氮化碳、氮化硅、氮化钛或氮化铝，缓冲层的氮氧化物为氮氧化硅或氮氧化钛，所述缓冲层的氧化物为氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钽或氧化钛。

3.根据权利要求1所述的一种用于手机盖板的彩色不导电真空电镀膜，其特征在于，所述第一折射膜层采用氮化碳、氮化硅、氮化钛、氮化铝、氮氧化硅、氮氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钽或氧化钛；第二折射膜层采用氮氧化硅、氧化硅或氟化镁。

4.一种用于手机盖板的彩色不导电真空电镀膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、清洗玻璃基板，去除玻璃基板表面的污垢；

S2、在玻璃基板顶面喷涂底漆层；

S3、采用等离子体对底漆层进行轰击，然后通过磁控溅射工艺在底漆层表面沉积缓冲层，所述缓冲层为单晶硅层、氮化物层、氮氧化物层或氧化物层；缓冲层的氮化物为氮化碳、氮化硅、氮化钛或氮化铝，缓冲层的氮氧化物为氮氧化硅或氮氧化钛，所述缓冲层的氧化物为氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钽或氧化钛；

S4、采用等离子体对缓冲层进行轰击，然后通过NCVM工艺在下介质层表面镀制NCVM层；NCVM层采用铟、锡、锌、钛、锆或是以上金属的合金；

S5、采用磁控溅射工艺在NCVM层表面沉积彩色层，彩色层是由第一折射膜层与第二折射膜层交替层叠构成的复合膜层，彩色层的层数为2～4层；第一折射膜层的折射率大于第二折射膜层；

第一折射膜层采用氮化碳、氮化硅、氮化钛、氮化铝、氮氧化硅、氮氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钽或氧化钛；第二折射膜层采用氮氧化硅、氧化硅或氟化镁；

S6、在彩色层表面喷涂面漆层，得到权利要求1所述的彩色不导电真空电镀膜。