[发明专利]一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011431497.4 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN112720182A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 何巍;袁宏伟;祝连庆;张雯;董明利;李红;何彦霖 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: B24B19/22 分类号: B24B19/22;B24B41/06;G01N21/17
代理公司: 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11416 代理人: 王琦;庞立岩
地址: 100085 北京市海淀区清*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 侧面 光纤 ph 传感 结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构的制备方法,其特征在于,该制备方法具有以下步骤:

(1)取一段光纤,去除涂覆层,作为抛磨区;

(2)将步骤(1)中所述光纤固定在抛磨机上,对所述抛磨区进行持续打磨;

(3)每隔1h观察所述抛磨区的包层厚度,直至抛磨厚度达到要求为止;

(4)在光纤所述抛磨区涂覆水凝胶。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述抛磨区长度可根据需要任意设定。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述抛磨机为轮式抛磨机。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述观察所述抛磨区的包层厚度是使用自带望远镜系统观察。

5.根据权利要求1-4所述述制备方法制备的一种基于侧面抛磨的多模光纤温度传感结构。

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