[发明专利]一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构及其制备方法在审
申请号: | 202011431497.4 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN112720182A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 何巍;袁宏伟;祝连庆;张雯;董明利;李红;何彦霖 | 申请(专利权)人: | 北京信息科技大学 |
主分类号: | B24B19/22 | 分类号: | B24B19/22;B24B41/06;G01N21/17 |
代理公司: | 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11416 | 代理人: | 王琦;庞立岩 |
地址: | 100085 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 侧面 光纤 ph 传感 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构的制备方法,其特征在于,该制备方法具有以下步骤:
(1)取一段光纤,去除涂覆层,作为抛磨区;
(2)将步骤(1)中所述光纤固定在抛磨机上,对所述抛磨区进行持续打磨;
(3)每隔1h观察所述抛磨区的包层厚度,直至抛磨厚度达到要求为止;
(4)在光纤所述抛磨区涂覆水凝胶。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述抛磨区长度可根据需要任意设定。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述抛磨机为轮式抛磨机。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述观察所述抛磨区的包层厚度是使用自带望远镜系统观察。
5.根据权利要求1-4所述述制备方法制备的一种基于侧面抛磨的多模光纤温度传感结构。
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