[发明专利]碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液及制备方法

权利要求书

1.一种碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：金刚石磨料0.1-1%、油性剂 3-10%、分散剂0.1-0.4%、改性脲溶液 0.1-0.5%、活化剂 0.1-0.5%、余量为基础溶剂。

2.根据权利要求1所述的碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液，其特征在于：所述油性剂为甘油单油酸酯或二十二碳烯酸，分散剂为硅烷偶联剂，活化剂为水，基础溶剂为C12-C15矿物油。

3.根据权利要求1或2所述的碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液，其特征在于，所述金刚石磨料为多晶金刚石粉体，将多晶金刚石粉体制备为油性金刚石分散液，具体步骤为：

（1）将多晶金刚石粉体分散在水中，室温下搅拌超声分散30min、离心法抛粗；

（2）将步骤（1）离心后浆料进行高速离心脱水，调整其含水率不低于20%，采用冻干机烘干磨料；

（3）向步骤（2）得到的烘干磨料中加入基础溶剂和分散剂，室温下搅拌超声分散、离心法抛粗，得到油性金刚石分散液。

4.根据权利要求3所述的碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液，其特征在于：所述步骤（1）中多晶金刚石粉体的粒径为200nm-1.5μm，分散在水中后金刚石粉体的固含量为5-10 wt%，超声功率为500-1500KW，频率40KH。

5.根据权利要求3所述的碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液，其特征在于：所述步骤（3）中烘干磨料加入基础溶剂后固含量为5-10 wt%，分散剂的含量为3-4wt%，超声功率为500-1500KW，频率40KH，搅拌转速为150-300rpm。

6.权利要求4-5任一项所述的碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

①将油性剂加入到基础溶剂中，搅拌混合均匀，得A溶液；

②搅拌的状态下，将改性脲溶液滴加到A溶液中，得B溶液；

③搅拌状态下，将活化剂加入B溶液中，持续搅拌30-60min，得C溶液；

④搅拌状态下，将油性金刚石分散液加入到C溶液中，持续搅拌30-60min，得到金刚石抛光液。

7.根据权利要求6所述的碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液的制备方法，其特征在于，所述步骤①、②和④搅拌转速为200-500rpm，步骤③搅拌转速为800-1000rpm。