[发明专利]一种MEMS器件及其形成方法有效

专利信息
申请号: 202011433127.4 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112225170B 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 李森科·伊戈尔·叶夫根耶维奇;徐宝;徐元;吴刚 申请(专利权)人: 杭州麦新敏微科技有限责任公司
主分类号: G01C19/5762 分类号: G01C19/5762
代理公司: 杭州创智卓英知识产权代理事务所(普通合伙) 33324 代理人: 张迪
地址: 310000 浙江省杭州市滨江区浦*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 mems 器件 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种MEMS器件,其特征在于,所述MEMS器件包括:

检验质量块(1);

感测梳(2),设为四组,分别设置于所述检验质量块(1)的四侧,每组所述感测梳(2)包括多个可移感测梳齿(21)、集成多个所述可移感测梳齿(21)的第一框架(22)、多个固定感测梳齿(23)以及集成多个所述固定感测梳齿(23)的第二框架(24),所述可移感测梳齿(21)和所述固定感测梳齿(23)相互交叉形成叉指结构,并沿着平行于其所在侧对应的所述检验质量块(1)边长的方向延伸,其中,所述固定感测梳齿(23)固定在第一衬底(4)上,所述第一框架(22)与所述检验质量块(1)通过弹性悬架(8)弹性连接;

驱动梳(3),设为四组,一一对应设置于四个所述感测梳(2)远离所述检验质量块(1)的一侧,每组所述驱动梳(3)包括多个可移驱动梳齿(31)、集成多个所述可移驱动梳齿(31)的第三框架(32)、多个固定驱动梳齿(33)以及集成多个所述固定驱动梳齿(33)的第四框架(34),所述可移驱动梳齿(31)和所述固定驱动梳齿(33)相互交叉形成叉指结构,并沿着垂直于其所在侧对应的所述检验质量块(1)边长的方向延伸,其中,所述固定驱动梳齿(33)固定在所述第一衬底(4)上,所述第三框架(32)连接所述第一框架(22)。

2.如权利要求1所述的MEMS器件,其特征在于,所述MEMS器件还包括所述第一衬底(4),以及固定设置于所述第一衬底(4)上的第一传感平面电极(41),所述第一传感平面电极(41)设置于所述检验质量块(1)下方。

3.如权利要求2所述的MEMS器件,其特征在于,所述MEMS器件还包括固定设置于所述第一衬底(4)上的第一驱动平面电极(42),所述第一驱动平面电极(42)设置于所述检验质量块(1)下方。

4.如权利要求3所述的MEMS器件,其特征在于,所述MEMS器件还包括多个锚点(5),多个所述锚点(5)均固定在所述第一衬底(4)上,所述第一框架(22)和所述第三框架(32)均与一个或多个所述锚点(5)弹性连接。

5.如权利要求1所述的MEMS器件,其特征在于,部分所述可移驱动梳齿(31)和部分所述固定驱动梳齿(33)组成功能梳(35),其余所述可移驱动梳齿(31)和其余所述固定驱动梳齿(33)组成设于所述功能梳(35)侧方的一个或多个补偿梳(36)。

6.如权利要求4所述的MEMS器件,其特征在于,所述MEMS器件还包括设置于所述检验质量块(1)远离所述第一衬底(4)的一侧的第二衬底(6),所述第一衬底(4)和所述第二衬底(6)两端相连,形成放置所述检验质量块(1)、所述感测梳(2)、所述驱动梳(3)、所述锚点(5)、所述第一传感平面电极(41)及所述第一驱动平面电极(42)的空腔。

7.如权利要求6所述的MEMS器件,其特征在于,所述MEMS器件还包括设置于所述第二衬底(6)上的第二传感平面电极(61)和第二驱动平面电极(62),所述第一传感平面电极(41)和所述第二传感平面电极(61)、所述第一驱动平面电极(42)和所述第二驱动平面电极(62)两两相对设置。

8.如权利要求6所述的MEMS器件,其特征在于,所述检验质量块(1)内穿设有多个通孔(11)。

9.一种如权利要求1所述MEMS器件的形成方法,其特征在于,所述形成方法包括:

将基板(7)研磨到形成MEMS器件结构所需的厚度;

在所述基板(7)上刻蚀形成检验质量块(1)、感测梳(2)、驱动梳(3)及弹性悬架(8),其中,所述弹性悬架(8)弹性连接第一框架(22)与所述检验质量块(1)。

10.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,所述形成方法还包括:

在第一衬底(4)上蚀刻,形成第一传感平面电极(41)和第一驱动平面电极(42),在第二衬底(6)上蚀刻,形成第二传感平面电极(61)和第二驱动平面电极(62);

将所述检验质量块(1)、感测梳(2)、驱动梳(3)及弹性悬架(8)封装在所述第一衬底(4)和所述第二衬底(6)围成的空腔内,并将所述第一衬底(4)和所述第二衬底(6)的两端相连接。

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