[发明专利]一种低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯及其制备方法

权利要求书

1.一种低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)按质量份数将95～99份聚丙烯、0.2～0.5份成核剂、0.1～0.5份抗氧剂、0.1～0.5份加工助剂加入至双螺杆挤出机熔融共混；

(2)将0.6～3.5份降解剂分批加入，得到所述高熔指聚丙烯；所述降解剂分3～5批次加入，从机头开始第3段～第8段的加料口分批加入；

所述双螺杆挤出机的长径比为56～64，至少包括14段，至少设有3个加料口和至少2个脱挥口；

从机头开始各段的温度分别为：第1段165～175℃，第2段165～175℃，第3段175～185℃，第4段215～225℃，第5段225～235℃，第6段245～255℃，第7段245～255℃，第8段225～235℃，第9段215～225℃，第10段205～215℃，第11段195～205℃，第12段185～195℃，第13段175～185℃，第14段170～180℃；

制备的高熔指聚丙烯的分子量分布不大于3，熔点不低于165℃。

2.根据权利要求1所述的低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，所述双螺杆挤出机的加工温度为170～250℃；转速为300～500rpm。

3.根据权利要求1所述的低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，所述聚丙烯为均聚聚丙烯或共聚聚丙烯或其混合物，其熔指的范围为2～30g/10min。

4.根据权利要求1所述的低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，所述降解剂包括过氧化二叔丁基，过氧化二异丙苯，2，5-二甲基-2，5-二叔丁基过氧化己烷，过氧化苯甲酰，偶氮异丁氰基甲酰胺、偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈或偶氮二异庚腈中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，所述的成核剂为磷酸盐类成核剂、山梨醇类成核剂或高分子成核剂中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，所述的抗氧剂为受阻酚类抗氧剂、受阻胺类抗氧剂、高分子类抗氧剂、亚磷酸酯抗氧剂中的一种或几种。

7.根据权利要求1所述的低气味窄分子量分布的高熔指聚丙烯的制备方法，其特征在于，所述的加工助剂为硬脂酸钙、硬脂酸锌、硬脂酰胺、乙撑双硬脂酰胺、石蜡中的一种或多种。

8.根据权利要求1-7任一项所述的制备方法制备得到的高熔指聚丙烯，其特征在于，所述高熔指聚丙烯的熔点分子量分布不大于3，熔点不低于165℃。