[发明专利]适用于直管蒸发装置的光路稳定结构在审

专利信息
申请号: 202011438937.9 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN112346255A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 凌菲彤;孙桂侠;熊明;刘涛 申请(专利权)人: 核工业理化工程研究院
主分类号: G02B27/30 分类号: G02B27/30
代理公司: 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 代理人: 马倩
地址: 300180 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 适用于 蒸发 装置 稳定 结构
【权利要求书】:

1.一种适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:包括空气扰动补偿机构和光路漂移量探测机构,所述空气扰动补偿机构包括Ⅰ号快速反射镜(2)和设置于其反射光路上的Ⅱ号快速反射镜(3),Ⅰ号快速反射镜(2)设置于激光器(1)发射光路上;所述光路漂移量探测机构包括设置于Ⅱ号快速反射镜(3)反射光路上的分光镜(5)和设置于分光镜(5)反射管路上的位置探测器(4);所述Ⅰ号快速反射镜(2)和Ⅱ号快速反射镜(3)之间设置准直调整系统(6)。

2.根据权利要求1所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:直管蒸发装置(7)设置于所述分光镜(5)的透射光路上。

3.根据权利要求1所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述Ⅰ号快速反射镜(2)设置于尽可能靠近激光器(1)的位置。

4.根据权利要求1所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述Ⅱ号快速反射镜(3)设置于尽可能靠近直管蒸发装置(7)的入射窗口的位置。

5. 根据权利要求1所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述位置探测器(4)由2个PSD 2D位置敏感探测器组成。

6.根据权利要求1所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述准直调整系统(6)包括基座机构和准直机构,所述基座机构包括四维调整座(9)和设置于四维调整座(9)上的导轨(8);所述准直机构包括沿光路依次设置的Ⅰ号透镜(10)、Ⅱ号透镜(11)和光阑(12);Ⅰ号透镜(10)、Ⅱ号透镜(11)和光阑(12)均设置于导轨(8)上。

7.根据权利要求6所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述Ⅰ号透镜(10)、Ⅱ号透镜(11)和光阑(12)均通过磁性固定座(15)设置于导轨(8)上。

8.根据权利要求6所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述Ⅰ号透镜(10)、Ⅱ号透镜(11)和光阑(12)的中心水平线共线。

9.根据权利要求6所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述准直调整系统(6)还包括定位机构,定位机构包括Ⅰ号光束定位板(13)和Ⅱ号光束定位板(14),两者分别设置于导轨(8)的两端。

10.根据权利要求9所述的适用于直管蒸发装置的光路稳定结构,其特征在于:所述Ⅰ号光束定位板(13)和Ⅱ号光束定位板(14)上均形成小孔,且两者小孔的中心位于Ⅰ号透镜(10)、Ⅱ号透镜(11)和光阑(12)的中心水平线上。

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