[发明专利]粒子的均质膜涂层在审
| 申请号： | 202011440500.9 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112941472A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | R·R·达马塞纳;陈书如;戴放;蔡梅 | 申请（专利权）人： | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;H01M4/139;H01M10/052 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张琦璐;杨思捷 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 粒子 质膜 涂层 | ||
1.将均质膜涂层施加至组件的组成粒子的方法，所述方法包括：
将靶元件设置在溅射室中；
将容器布置在所述溅射室中；
将所述组成粒子布置在所述容器（托盘）上；
通过高能粒子轰击所述靶元件以便从所述靶元件喷射材料并将所述材料沉积到所述组成粒子上；以及
在轰击过程中搅动所述容器以便将所述材料作为均质膜涂层施加至所述组成粒子。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述材料选自碳同素异形体和金属导体或半导体的名单。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述均质膜涂层具有5-50纳米的厚度。
4.根据权利要求1所述的方法，其中搅动所述容器包括通过预定行程以每分钟2,000至20,000次行程的频率引起振动。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述组成粒子具有基体复合结构，所述基体复合结构具有负载能量密集元素的多孔材料基体。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述组成粒子的尺寸为5至20微米。
7.根据权利要求1所述的方法，其还包括在轰击所述靶元件和搅动所述容器各自的过程中，在所述溅射室中保持1×10-3 mBarr的真空。
8.根据权利要求1所述的方法，其还包括在轰击所述靶元件和搅动所述容器各自的过程中，在所述溅射室中保持25至115℃的温度。
9.根据权利要求1所述的方法，其中搅动所述容器通过DC电动机或超声换能器来实现。
10.根据权利要求1所述的方法，其中通过高能粒子轰击所述靶元件包括将氩气注入所述溅射室中。
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