[发明专利]一种凹凸结构式拓片的脱酸保护方法有效
申请号: | 202011443319.3 | 申请日: | 2020-12-08 |
公开(公告)号: | CN112609507B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 张溪文;陈炳铨;施文正;徐绍艳 | 申请(专利权)人: | 杭州众材科技股份有限公司 |
主分类号: | D21H25/18 | 分类号: | D21H25/18;D21H25/04;D21H25/02 |
代理公司: | 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 | 代理人: | 沈自军 |
地址: | 310063 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 凹凸 结构式 拓片 脱酸 保护 方法 | ||
1.一种凹凸结构式拓片的脱酸保护方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)使用等离子体气流活化拓片表面,去除拓片表面的惰性层;所述等离子体气流活化是通过空气将反应室中气体等离子放电产生的等离子体带出,产生等离子体气流对拓片进行活化处理;所述等离子体由气体介质阻挡放电的形式产生;所述等离子体由空气、氮气或惰性气体中的一种或多种放电产生;
2)将脱酸剂雾化后浸润拓片进行脱酸处理。
2.根据权利要求1所述的凹凸结构式拓片的脱酸保护方法,其特征在于,所述等离子体为冷等离子体。
3.根据权利要求1所述的凹凸结构式拓片的脱酸保护方法,其特征在于,所述拓片在等离子体气流中活化处理的时间为2~5min。
4.根据权利要求1所述的凹凸结构式拓片的脱酸保护方法,其特征在于,所述步骤2)中脱酸剂为水性脱酸液。
5.根据权利要求4所述的凹凸结构式拓片的脱酸保护方法,其特征在于,所述水性脱酸剂为氢氧化钙溶液、氢氧化镁溶液、碳酸氢钙溶液或者碳酸氢镁溶液中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的凹凸结构式拓片的脱酸保护方法,其特征在于,所述脱酸剂雾化的方式包括机械雾化、介质雾化或者超声雾化。
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