[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 202011443410.5 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN114621683A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 贾长征;李守田 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，含有氧化铈研磨颗粒，羟胺及其衍生物和pH调节剂。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，进一步包括PH缓冲液。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述pH缓冲液为苯甲酸。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述氧化铈研磨颗粒的粒径为45nm-75nm。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述氧化铈研磨颗粒的浓度为质量百分比0.1％-0.5％。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述羟胺及其衍生物的浓度为质量百分比50ppm～3000ppm。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述羟胺及其衍生物其中，R1和R2为H或者其他官能团，所述官能团含有C、H、N、O元素。
8.如权利要求6所述的化学机械抛光液，其中所述羟胺及其衍生物选自乙酰氧肟酸、N-羟基丁二酰亚胺、乙酰羟肟酸乙酯、丙酮肟、羟基脲、N-羟基氨基甲酸叔丁酯和N-羟基苯邻二甲酰亚胺中的一种或多种。
9.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述化学抛光液的pH值为3.0-6.0.
10.一种化学机械抛光液的使用方法，其特征在于，将如权利要求1～9任一所述的化学机械抛光液用于减少TEOS抛光速率对压力的敏感性。
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