[发明专利]阵列式陶瓷预制体烧结单元单体与高通量无压烧结方法有效
申请号: | 202011445869.9 | 申请日: | 2020-12-11 |
公开(公告)号: | CN112456980B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 李烨飞;李书文;郑巧玲;李海生;牛瑞霞;赵四勇 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学;广西长城机械股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10;C04B35/48;C04B35/628;C04B35/64 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 高博 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 陶瓷 预制 烧结 单元 单体 通量 方法 | ||
1.阵列式陶瓷预制体烧结单元单体的高通量无压烧结方法,其特征在于,将ZTA陶瓷颗粒进行表面改性,镀覆Ni3Ti金属间化合物和α-Ti单质;然后将镀覆后的ZTA陶瓷颗粒与Ni3Ti粉、Ti粉混合均匀,填入石墨模具内压实得到陶瓷预制体烧结单元单体;将陶瓷预制体烧结单元单体放入阵列式氧化铝托盘上,然后放入高通量无压烧结制备装置内,以恒定升温速率加热至烧结温度、保温、再随炉冷却,获得高通量陶瓷预制体。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,ZTA陶瓷颗粒含20wt.%~80wt.%的Al2O3,余量为ZrO2。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,ZTA陶瓷颗粒的尺度为300μm~3mm。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,镀覆Ni3Ti金属间化合物和α-Ti单质所采用的方法为物理气相沉积,每次使用三个Ni3Ti合金靶和一个α-Ti单质靶同时进行镀覆。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,Ni3Ti粉占ZTA陶瓷颗粒质量分数的10%~14%;Ti粉占ZTA陶瓷颗粒质量分数的2%~4%。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,以10~20℃/min的升温速率加热至1250~1600℃,保温0.5~2h,随炉冷却获得高通量陶瓷预制体。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,采用石墨纸包裹经镀覆的ZTA陶瓷颗粒与Ni3Ti粉、Ti粉后填入石墨模具内压实得到陶瓷预制体烧结单元单体。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,阵列式氧化铝托盘包括三层,每层预置有多个阵列式孔洞用于放置烧结陶瓷预制体烧结单元单体。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,阵列式孔洞包括36~49个。
10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,三层阵列式氧化铝托盘之间通过氧化铝陶瓷柱隔开。
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