[发明专利]鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法有效
申请号: | 202011454985.7 | 申请日: | 2020-12-10 |
公开(公告)号: | CN113045465B | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 藤原敬之;及川健一;小林知洋;福岛将大 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C07C381/12 | 分类号: | C07C381/12;C07D333/76;C07D335/12;C07D327/08;C07D339/08;C07D279/20;C07C25/18;C07C39/367;C07C69/708;C07C43/225;C07D347/00;C07D333/46;C07D335/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盐化 化学 增幅 抗蚀剂 组成 以及 图案 形成 方法 | ||
1.一种鎓盐化合物,由以下式(1)表示;
式中,R1及R2各自独立地为氢原子、羟基或碳数1~12的烃基,该烃基中的氢原子亦可经含杂原子的基团取代,该烃基中的-CH2-亦可经-O-或-C(=O)-取代;又,R1及R2亦可彼此键结并与它们所键结的碳原子一起形成环;
Rf1及Rf2各自独立地为氢原子、氟原子或三氟甲基,但是,至少其中一者为氟原子或三氟甲基;
L1为单键或碳数1~15的亚烃基,该亚烃基中的-CH2-亦可经-O-或-C(=O)-取代;
L2为单键、醚键或酯键;
L1及L2均为单键时,R2为羟基、烃基氧基或烃基羰基氧基;
Ar为碳数3~15的(n+1)价芳香族基团,该芳香族基团的一部分或全部的氢原子亦可被取代基取代;所述取代基为氟原子、羟基或碳数1~10的烃基,所述烃基的-CH2-亦可经O-或-C(=O)取代,此外,所述烃基中的-CH2-亦可键结于所述芳香族基团;
n为符合1≤n≤5的整数;
M+为锍阳离子或錪阳离子。
2.根据权利要求1所述的鎓盐化合物,由以下式(2)表示;
式中,M+与前述相同;
n及m为符合1≤n≤5、0≤m≤4及1≤n+m≤5的整数;
R3为氢原子或亦可含有杂原子的碳数1~10的烃基;
R4为氟原子、羟基或碳数1~10的烃基,该烃基中的-CH2-亦可经-O-或-C(=O)-取代;m为2以上时,各R4彼此可相同也可不同,2个R4亦可彼此键结并与它们所键结的苯环上的碳原子一起形成环;
L3为单键、醚键或酯键;
L4为单键、或碳数1~10的亚烃基。
3.根据权利要求2所述的鎓盐化合物,其中,R3为氢原子、异丙基、金刚烷基、苯基、4-氟苯基、4-三氟甲基苯基、4-碘苯基或4-甲氧基苯基。
4.根据权利要求2或3所述的鎓盐化合物,其中,L3及L4为单键。
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