[发明专利]除臭设备、定型机、控制方法、装置和存储介质

权利要求书

1.一种除臭设备的控制方法，所述除臭设备包括：反应塔(1)，所述反应塔(1)中设置有反应室(11)，所述反应室(11)中从下至上设置有液池(18)、若干沿竖直方向分布的除臭层(12)、除雾层(14)；所述液池(18)中存放有二氧化氯溶液、且具有朝上的开口；所述反应室(11)的侧壁上设置有进气孔(191)、顶壁上设置有排气孔(192)，所述进气孔(191)的位置高于所述液池(18)、且低于所述除臭层(12)；所述液池(18)内的二氧化氯溶液通过水泵(16)以及管道(15)供应至除臭层(12)；其特征在于，包括以下步骤：

控制所述进气孔(191)接收废气；

启动所述水泵(16)、并将所抽取的二氧化氯溶液供应至除臭层(12)。

2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，

所述除臭设备还包括：二氧化氯发生装置(2)，所述二氧化氯发生装置(2)设置有输液管，所述输液管的出口端伸入所述液池(18)中；在所述液池(18)中设置有二氧化氯浓度探测器(181)；

所述控制方法还包括以下步骤：

获取二氧化氯浓度探测器(181)发送的用于表征液池(18)中的二氧化氯浓度的第一浓度值；

当第一浓度值最低预设浓度值时，控制二氧化氯发生装置(2)向所述液池(18)中添加二氧化氯添加液，其中，第二浓度值第一浓度值，第二浓度值用于表征所述二氧化氯添加液中的二氧化氯浓度。

3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，还包括以下步骤：

当第一浓度值最高预设浓度值时，控制二氧化氯发生装置(2)停止向所述液池(18)中添加二氧化氯添加液，其中，最高预设浓度值最低预设浓度值。

4.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，

最低预设浓度值＝2ppm，最高预设浓度值＝1000ppm。

5.一种除臭设备的控制装置，所述除臭设备包括：反应塔(1)，所述反应塔(1)中设置有反应室(11)，所述反应室(11)中从下至上设置有液池(18)、若干沿竖直方向分布的除臭层(12)、除雾层(14)；所述液池(18)中存放有二氧化氯溶液、且具有朝上的开口；所述反应室(11)的侧壁上设置有进气孔(191)、顶壁上设置有排气孔(192)，所述进气孔(191)的位置高于所述液池(18)、且低于所述除臭层(12)；所述液池(18)内的二氧化氯溶液通过水泵(16)以及管道(15)供应至除臭层(12)；其特征在于，包括以下模块：

启动模块，用于控制所述进气孔(191)接收废气；

除臭模块，用于启动所述水泵(16)、并将所抽取的二氧化氯溶液供应至除臭层(12)。

6.一种除臭设备的控制装置，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现权利要求1至4任一项所述方法的步骤。

7.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至4任一项所述方法的步骤。

8.一种除臭设备，其特征在于，包括：

反应塔(1)，所述反应塔(1)中设置有反应室(11)，所述反应室(11)的侧壁上设置有进气孔(191)、顶壁上设置有排气孔(192)，所述进气孔(191)和排气孔(192)均连通外部空间和反应室(11)；所述反应室(11)中从下至上设置有液池(18)、若干沿竖直方向分布的除臭层(12)和除雾层(14)；所述液池(18)中存放有二氧化氯溶液、且具有朝上的开口，所述进气孔(191)的位置高于所述液池(18)、且低于所述除臭层(12)；

所述除臭层(12)包括：填料层(121)以及用于向填料层(121)喷淋二氧化氯溶液的喷淋装置(122)，所述液池(18)内的二氧化氯溶液通过水泵(16)以及管道(15)供应至喷淋装置(122)。