[发明专利]一种硼烯纳米片及其制备方法

权利要求书

1.一种硼烯纳米片，其特征在于，所述的硼烯纳米片具有典型的二维层状结构，其厚度为0.3nm-10μm，其横向尺寸为10nm-100μm，硼元素的质量含量大于90%。

2.根据权利要求1所述的硼烯纳米片，其特征在于，所述厚度为0.8nm-20nm，所述横向尺寸为50nm-10μm，所述硼烯纳米片的表观密度为0.01g/cm³-100g/cm³。

3.权利要求1或2所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

第一步，将硼粉加入到溶剂中配成分散液然后在水浴中超声；

第二步，将得到的产物加入到浓酸形成浓酸悬浮液然后进行超声处理，再经过离心干燥得到插层产物；

第三步，将插层产物经过程序升温膨胀得到膨胀硼粉；

第四步，将膨胀硼粉经过液相剥离得到硼烯纳米片。

4.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第一步中所述硼粉的颗粒大小为3000目到20目，硼元素含量大于90%，表观密度为0.1g/cm³-100g/cm³。

5.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第一步中所述溶剂包括水、乙醇、异丙醇、DMF、NMP或乙腈中的任意一种或者任意两种以上的组合。

6.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第一步中硼粉加入到溶剂中配成的分散液的浓度为20mg/L~1.2g/mL。

7.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第二步中所述浓酸包括硫酸、盐酸、磷酸或高氯酸中的一种或者任意两种以上的组合，所述浓酸的质量百分比浓度为15%-65%。

8.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第二步中形成的浓酸悬浮液的浓度为50mg/mL~800mg/mL。

9.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第三步中所述程序升温的升温范围为100℃~1000℃，其中程序升温包含若干段温区，其中每段温区温度范围小于300℃，程序升温的升温速率为0.1℃~50℃。

10.根据权利要求3所述的硼烯纳米片的制备方法，其特征在于，第四步中所述液相剥离的方式包括超声、高速搅拌、均质或砂磨中的一种或者任意两种以上的组合。