[发明专利]一种辐射自屏蔽的工业在线CT

说明书

本发明提供一种辐射自屏蔽的工业在线CT，解决传统工业CT采用自屏蔽装置与检测大尺寸零件相互冲突，使得可检测零件的尺寸相对较小以及现有自屏蔽装置只能离线检测的问题。该工业在线CT包括立柱转台、立柱、横梁、屏蔽仓转台、辐射屏蔽仓、安装支架、探测器、射线源和N个工件转台，其中，N大于等于1；立柱设置在立柱转台上；横梁设置在立柱上；屏蔽仓转台悬挂在横梁下端，辐射屏蔽仓设置屏蔽仓转台下端；辐射屏蔽仓的两侧设置有开口，且开口处设置有铅橡胶防止辐射泄露；安装支架位于工件转台的上方，且设置在辐射屏蔽仓内；探测器、射线源设置在安装支架内，用于对设置在工件转台上的被检测件进行检测。

技术领域

本发明属于无损检测领域，具体涉及一种辐射自屏蔽的工业在线CT。

背景技术

工业CT是工业用计算机断层成像技术的简称，该技术采用核成像技术实现被检测件的检测需求，是工业中常见的无损检测方法，其原理是利用X射线或γ射线具有穿透性的特点，根据从探测器获取的辐射强度信息，反推出X射线或γ射线在被检测件内的衰减规律及分布情况，从而实现被检测件二维或者三维重建成像，最终根据其重建图像，获得检测件的缺陷、尺寸、材质等信息，从而方便的评估零件的结构、缺陷等状态，提高零件的安全性。

目前，工业CT多采用离线自屏蔽的方式对零件进行检测，离线检测即在零件成型后进行检测，一旦检测出缺陷就有可能使得零件报废而无法进行补救，且有可能导致整批采用相同工艺的零件报废的风险，因此在工艺流程中越早的检测出缺陷对于减少报废率是越有益的。

同时，目前采用自屏蔽方式或辐射防护室进行工业CT辐射防护设计。自屏蔽式设计，即屏蔽体与X射线探伤装置主体结构一体设计和制造，其检测器件及运动系统在屏蔽体内，屏蔽体能够将装置产生的X射线剂量减少到规定的剂量限值以下，但此种方式可检测零件的尺寸相对较小；另一种较为多用的方式为建设辐射防护室，此种方式在一定程度上增大了检测设备自由度及可检测零件的尺寸，但由于辐射防护室的造价及建造难度要远高于自屏蔽设计，且由于自屏蔽设计的灵活性要好于辐射防护室，因此目前工业CT还是多采用自屏蔽设计，而自屏蔽下的大尺寸零件检测问题是亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的是解决传统工业CT采用自屏蔽装置与检测大尺寸零件相互冲突，使得可检测零件的尺寸相对较小以及现有自屏蔽装置只能离线检测的问题，提供一种辐射自屏蔽的工业在线CT，该工业在线CT可实现大型工件在成形过程中及离线状态下的无损检测。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种辐射自屏蔽的工业在线CT，包括立柱转台、立柱、横梁、屏蔽仓转台、辐射屏蔽仓、安装支架、探测器、射线源和N个工件转台，其中，N大于等于1；所述立柱设置在立柱转台上，立柱转台用于带动立柱做旋转运动；所述横梁设置在立柱上，立柱用于带动横梁做上下移动；所述屏蔽仓转台悬挂在横梁下端，所述辐射屏蔽仓设置屏蔽仓转台下端，所述横梁用于实现辐射屏蔽仓的左右移动，所述屏蔽仓转台用于实现辐射屏蔽仓的旋转运动；所述辐射屏蔽仓的两侧设置有开口，且开口处设置有铅橡胶防止辐射泄露；所述安装支架位于工件转台的上方，且设置在辐射屏蔽仓内；所述探测器、射线源设置在安装支架内，用于对设置在工件转台上的被检测件进行检测，被检测件整体或部分设置在辐射屏蔽仓内。

进一步地，所述辐射屏蔽仓包括蒙皮、主体框架、屏蔽层和屏蔽层调整组件；所述主体框架为多层，多层主体框架由内向外依次嵌套设置，且主体框架上设置有安装轨道；所述屏蔽层为M层，M层屏蔽层安装在主体框架的安装轨道内，且屏蔽层通过屏蔽层调整组件固定在主体框架上，M大于等于1；所述蒙皮设置在主体框架的内侧和外侧，用于包覆主体框架；所述主体框架和蒙皮的两侧设置有开口。

进一步地，所述屏蔽层调整组件包括第一垫板、第二垫板和调整螺栓，所述第一垫板设置在屏蔽层外侧，所述第二垫板设置在主体框架外侧，所述调整螺栓穿过第二垫板，其末端抵靠在第一垫板上。

进一步地，所述主体框架采用一体式的三角形加强筋结构。