[发明专利]一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法

权利要求书

1.一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx、金属银、第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后将第二玻璃基片热压在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃层一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化。

2.根据权利要求1所述的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3-4mm和1-2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为30-50nm、10-20nm和15-20nm，所述金属银厚度均在10-20nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为20-30nm、15-25nm和40-60nm。

3.根据权利要求2所述的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分别为3mm和2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx的厚度分别为40nm、15nm和18nm，所述金属银厚度为15nm，所述第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分别为25nm、20nm和50nm。

4.一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：具体步骤如下：

S1：选择第一玻璃基片，将其置于高真空磁控溅射镀膜设备内，真空设置为2-3MPa,线速度2.5-3.5m/min；

S2：在第一玻璃基片上依次溅射第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx，上述溅射层的高真空磁控溅射镀膜设备的功率分别为80KW-100KW、20KW-30KW和5KW-10KW；

S3：在步骤S2中的第一氮铝硅SiAlNx上溅射金属银，高真空磁控溅射镀膜设备的功率为3KW-5KW；

S4：在步骤S3的金属银上依次溅射第二氮铝硅SiAlNx、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，上述溅射层的高真空磁控溅射镀膜设备的功率分别为5KW-10KW、20KW-30KW和80KW-100KW，然后将溅射后的玻璃置于热压机内进行预热；

S5：向步骤S4中热压机内玻璃上盖上第二玻璃基板进行热压贴合，取出；

S6：向步骤S5中形成夹层玻璃一周涂刷高温液态玻璃溶液进行封边，然后离线钢化。

5.根据权利要求4所述的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx和第一氮铝硅SiAlNx溅射厚度分别约为第二氮化硅SiNx、第二氧化锌铝ZnAlOx和第二氮铝硅SiAlNx厚度的70-80％。

6.根据权利要求4所述的一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述步骤S4中溅射方向相对步骤S2的溅射方向旋转180°。