[发明专利]一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头

权利要求书

1.一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，包括：触头片(1)、触头托(2)、支撑架(3)、触头杯(4)、导电杆(5)和铁磁柱(7)；

所述触头片(1)、触头托(2)、支撑架(3)、触头杯(4)和导电杆(5)从上到下依次设置，且各个接触面均通过高电导率的焊料连接；

所述触头托(2)与所述触头杯(4)形成杯腔，所述支撑架(3)位于杯腔中心，所述铁磁柱(7)均匀分布在所述支撑架(3)与杯腔内壁之间，所述支撑架(3)的下端面和所述铁磁柱(7)的下端面均通过定位槽与杯腔底部接触，所述支撑架(3)的上端面和所述铁磁柱(7)的上端面均连接所述触头托(2)；

所述导电杆(5)设置在触头杯(4)的底部，用于连接触头和真空灭弧室，传导电流；在所述触头片(1)上沿径向均匀设置有多个第一槽，所述第一槽用于减小触头片(1)中的涡流，从而减小燃弧期间磁场的滞后和电流过零时刻的剩余磁场；

在所述触头片(1)上沿径向均匀设置有多个第二槽，且所述第二槽设置在相邻两个第一槽之间，所述第二槽的长度小于所述第一槽的长度，所述第二槽的宽度小于所述第一槽的宽度；所述第二槽用于进一步减小触头片(1)中的涡流，同时保障燃弧期间阴极斑点的运动路径。

2.如权利要求1所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头托(2)上均匀设置有沿径向的第三槽，所述第三槽用于减小触头托(2)中的涡流，减小燃弧期间磁场的滞后和电流过零时刻的剩余磁场；且所述第三槽的位置与所述第一槽的位置相同。

3.如权利要求2所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头托(2)上沿径向均匀设置有多个第四槽，且所述第四槽设置在相邻两个第三槽之间，所述第四槽的长度小于所述第三槽的长度，所述第四槽的宽度小于所述第三槽的宽度；所述第四槽的位置与所述第二槽的位置相同；所述第四槽用于进一步减小触头托(2)中的涡流。

4.如权利要求3所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述第一槽的数量与所述第三槽的数量相同，所述第二槽的数量与所述第四槽的数量相同；且所述第一槽的数量与所述触头杯(4)的杯指数量相同。

5.如权利要求1-4任一项所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述支撑架(3)的材料为不锈钢材料。

6.如权利要求2所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头杯(4)上开槽且沿杯壁旋转90°形成杯指，所述触头杯(4)上的槽口与所述触头托(2)上的第三槽对应。

7.如权利要求6所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述铁磁柱(7)固定在所述支撑架(3)和所述触头杯(4)内壁之间，所述铁磁柱(7)的数量与所述触头杯(4)的杯指数量相同，多个所述铁磁柱(7)均匀分布在所述触头托(2)的所述第三槽对应的直径方向，所述铁磁柱(7)的下端面通过杯腔底部均匀设置于定位槽，所述铁磁柱(7)的上端面与触头托的下表面接触。

8.如权利要求7所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述铁磁柱(7)为圆柱形，所述定位槽为圆柱形。