[发明专利]熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备

权利要求书

1.一种熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：包括熏蒸台面、均布于熏蒸台面上的蒸汽出口和分布于各个蒸汽出口之间的漫反射传感器，所述蒸汽出口通过蒸汽管道连通熏蒸设备，每条蒸汽管道上均安装有出汽控制装置，所述出汽控制装置用于控制药雾和蒸汽的输出量，所述出汽控制装置通过中控设备关联所述漫反射传感器，根据漫反射传感器的状态信息，所述中控设备控制各个出汽控制装置的控制状态。

2.根据权利要求1所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：各所述蒸汽管道的进口处均设置蒸汽支管和药雾支管，所述蒸汽控制装置包括设置于所述蒸汽支管处安装的蒸汽流量调节阀和所述药雾支管处安装的药雾流量调节阀，所述蒸汽流量调节阀和药雾流量调节阀均连接所述中控设备，所述药雾流量调节阀通过中控设备关联所述漫反射传感器，当所述漫反射传感器未接收到感应信号时，控制相邻的药雾流量调节阀关闭。

3.根据权利要求2所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：相邻的每四个蒸汽出口的中心处安装一个漫反射传感器。

4.根据权利要求3所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：当相邻两个漫反射传感器中，只有一个漫反射传感器接收到感应信号时，优先控制接收到感应信号的漫反射传感器四周的蒸汽出口所对应的药雾流量调节阀开启。

5.根据权利要求4所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：所述蒸汽流量调节阀和药雾流量调节阀的调节频率和调节程度由中控设备输出的指令控制调节。

6.根据权利要求5所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：还包括由中控设备连接的显示屏，所述显示屏用于模拟显示蒸汽出口的分布、各蒸汽出口处输出蒸汽和药雾的状态以及漫反射传感器的感应状态。

7.根据权利要求6所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：所述熏蒸台面为包括下层台面和上层台面的双层结构，所述蒸汽出口设于下层台面上，所述上层台面上均布有细孔，所述下层台面和上层台面之间设置间隙。

8.根据权利要求7所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：所述熏蒸台面上对应人体的头、臀和脚设置三组定位传感器，三组定位传感器采用磁吸形式可调节的固定于熏蒸台面上。

9.根据权利要求8所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：所述下层台面上各个蒸汽出口和漫反射传感器的四周均设置斜面导流结构，各斜面导流结构交接处形成贯通的排水渠道，所述下层台面的四周设置对接各条排水渠道的汇水渠道。

10.根据权利要求8所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备，其特征在于：所述中控设备包括处理器模块，所述处理器模块内置穴位匹配模块，根据各漫反射传感器所确定的人体轮廓，计算出人体的穴位分布位置，并控制相应位置的蒸汽出口排出药雾。