[发明专利]一种高效制备薄层MXene的方法有效

专利信息
申请号: 202011471250.5 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112499601B 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 赖超;苏忠;曲婕;孙闯 申请(专利权)人: 江苏师范大学
主分类号: C01B21/06 分类号: C01B21/06;C01B21/076;C01B32/914;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 西安杜诺匠心专利代理事务所(普通合伙) 61272 代理人: 叶厚平
地址: 221116 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 高效 制备 薄层 mxene 方法
【权利要求书】:

1.一种制备薄层MXene的方法,其特征是:将A层元素已经被刻蚀的MAX块体材料分散于一定量的剥离溶液中,振荡剥离后,冷冻干燥即可获得薄层MXene二维纳米片层材料;其中:

A层元素为Al或Si;

振荡时间为0.1h-10h;

剥离溶液为壳聚糖或聚丙烯酰胺的水溶液,浓度为0.01-100mg/mL,所添加剥离材料和待剥离的MAX材料的质量比为1%到100%;

薄层MXene二维纳米片层材料的厚度为1.5-100nm,片层结构尺寸为0.1-10μm。

2.根据权利要求1所述的制备薄层MXene的方法,其特征是:所添加剥离材料和待剥离的MAX材料的质量比为2%-20%。

3.权利要求1或2所述的方法制备得到的薄层MXene二维纳米片层材料在制备储能材料、复合纳米材料、润滑材料、吸附材料或者催化剂中的用途。

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