[发明专利]一种高效制备薄层MXene的方法有效
申请号: | 202011471250.5 | 申请日: | 2020-12-15 |
公开(公告)号: | CN112499601B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
发明(设计)人: | 赖超;苏忠;曲婕;孙闯 | 申请(专利权)人: | 江苏师范大学 |
主分类号: | C01B21/06 | 分类号: | C01B21/06;C01B21/076;C01B32/914;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 西安杜诺匠心专利代理事务所(普通合伙) 61272 | 代理人: | 叶厚平 |
地址: | 221116 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 制备 薄层 mxene 方法 | ||
1.一种制备薄层MXene的方法,其特征是:将A层元素已经被刻蚀的MAX块体材料分散于一定量的剥离溶液中,振荡剥离后,冷冻干燥即可获得薄层MXene二维纳米片层材料;其中:
A层元素为Al或Si;
振荡时间为0.1h-10h;
剥离溶液为壳聚糖或聚丙烯酰胺的水溶液,浓度为0.01-100mg/mL,所添加剥离材料和待剥离的MAX材料的质量比为1%到100%;
薄层MXene二维纳米片层材料的厚度为1.5-100nm,片层结构尺寸为0.1-10μm。
2.根据权利要求1所述的制备薄层MXene的方法,其特征是:所添加剥离材料和待剥离的MAX材料的质量比为2%-20%。
3.权利要求1或2所述的方法制备得到的薄层MXene二维纳米片层材料在制备储能材料、复合纳米材料、润滑材料、吸附材料或者催化剂中的用途。
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