[发明专利]化合物及其合成方法、硬掩模组合物以及形成图案的方法

权利要求书

1.一种化合物，包括：

缩合或非缩合多环芳族核，具有40个或大于40个碳原子并且在所述核的末端具有多个取代基，

其中所述取代基选自经取代或未经取代的C3到C20支链烷基、被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C6到C30芳基、被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C3到C30环烷基、被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C3到C30杂环基及其组合。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中

所述被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C6到C30芳基是

被至少两个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的苯基、被至少两个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的萘基、被至少两个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的蒽基、被至少两个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的菲基、被至少两个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的芘基或其组合。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中选自所述多个取代基中的两者在邻位键结到一个芳族环。

4.根据权利要求1所述的化合物，其中所述被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C6到C30芳基是由化学式1表示的基团：

[化学式1]

其中，在化学式1中，

R¹及R²独立地为经取代或未经取代的C3到C20支链烷基，

R³独立地为经取代或未经取代的C1到C30烷基、经取代或未经取代的C2到C30烯基、经取代或未经取代的C2到C30炔基、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30杂环基、卤素、氰基或其组合，

n是从0到3的整数，并且

是与所述缩合或非缩合多环芳族核的连接点。

5.根据权利要求1所述的化合物，其中所述经取代或未经取代的C3到C20支链烷基是经取代或未经取代的C3到C20异烷基、经取代或未经取代的C4到C20仲烷基、经取代或未经取代的C4到C20叔烷基、或经取代或未经取代的C5到C20新烷基。

6.根据权利要求1所述的化合物，其中所述经取代或未经取代的C3到C20支链烷基是经取代或未经取代的异丙基、经取代或未经取代的异丁基、经取代或未经取代的仲丁基、经取代或未经取代的叔丁基、经取代或未经取代的异戊基、经取代或未经取代的仲戊基、经取代或未经取代的叔戊基或经取代或未经取代的新戊基。

7.根据权利要求1所述的化合物，其中所述缩合或非缩合多环芳族核包括衍生自环硼氮烷的部分。

8.根据权利要求1所述的化合物，其中

所述缩合或非缩合多环芳族核是缩合多环芳族环，并且

所述缩合多环芳族环是纳米石墨烯。

9.根据权利要求8所述的化合物，其中所述取代基相对于在所述缩合多环芳族核的所述末端可能进行取代的位置总数的比率大于或等于约10％。

10.根据权利要求8所述的化合物，其中所述缩合多环芳族核是大小为约1纳米到约20纳米的颗粒。