[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种负型抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：

具有以下述通式(a10-1)表示的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、

以下述通式(b0-1)表示的产酸剂(B0)、

交联剂(C)、

在分子内具有1个或2个酚羟基且不具有羧基的芳香族化合物(Z)，

[化1]

式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Ya^x1为单键或2价的连接基团，Wa^x1为可具有取代基的芳香族烃基，n_ax1为1以上的整数，

[化2]

式中，Rb¹为有机基团，Rb²是以下述通式(b0-r-1)或下述通式(b0-r-2)表示的基团，

[化3]

式(b0-r-1)中，Rb²⁰¹及Rb²⁰²分别独立地为有机基团，*表示键，式(b0-r-2)中，Xb是与-(O＝)C-N-C(＝O)-共同形成具有环状酰亚胺结构的环式基的基团，*表示键。

2.如权利要求1所述的负型抗蚀剂组合物，其特征在于，所述芳香族化合物(Z)含有从由以下述通式(z1-1)表示的化合物及以下述通式(z2-1)表示的化合物构成的组中选择的至少一种化合物，

[化4]

式(z1-1)中，V_z¹为不具有羟基及羧基的2价连接基团，式(z2-1)中，Rz²为烃基，n1为1或2，n2为2～5的整数，其中，n1+n2≤6。

3.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述芳香族化合物(Z)的含量相对于所述高分子化合物(A1)100质量份为0.5～30质量份。

4.一种抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，具有使用权利要求1～3的任一项所述的抗蚀剂组合物在支承体上形成抗蚀剂膜的工序、将所述抗蚀剂膜曝光的工序、以及将所述曝光后的抗蚀剂膜显影来形成抗蚀剂图案的工序。