[发明专利]一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水工艺及系统

说明书

本发明涉及环保技术领域，尤其是一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水工艺，包括下述步骤：S1将电解酸性氯化铜蚀刻液废液作为电解液进行电解，以在阴极板上获得金属铜及在阳极板上获得含杂质的氯气；S2将步骤S1中杂质氯气进行收集，且将杂质氯气依次通过稀硫酸溶液及纯水，以去除氯气中的铜离子及杂气体，并以获得有效氯气；S3对步骤S2获得的有效氯气依次通过氢氧化钠溶液及盐酸溶液，以依次获得次氯酸钠溶液、弱酸性次氯酸水。同时公开了一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水系统，本发明的一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水工艺及系统，能够对酸性氯化铜蚀刻废液进行回收利用，并能够获得用于消毒或除菌方面的弱酸性次氯酸水。

技术领域

本发明涉及环保技术领域，尤其是一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水工艺及系统。

背景技术

随着电子工业的发展，印刷电路板广泛应用于电子产品的生产过程中，但过程中产生的大量废弃物给环境造成了巨大危害，其中蚀刻废液的产生与排放造成严重的环境污染和资源浪费，而大部分蚀刻废液为酸性氯化铜蚀刻废液，主要是因为其蚀刻速率快，溶铜容量高，易控制。

目前对酸性氯化铜蚀刻废液的处理一般采用电解法，在阳极再生蚀刻液的同时在阴极同时进行沉积回收铜过程，在此过程中，阳极产生强氧化性气体氯气，一部分再次用于蚀刻废液中，一部分则未被回收利用，造成空气二次污染以及资源浪费。现有氯气处理一般采用氯化亚铁溶液吸收氯气，但这样处理后的氯气携带少量铜离子和杂气体，例如水蒸气、氧气等，最终难以回收利用，进行资源循环，使用价值降低，成本较高。

发明内容

为了解决上述问题，本发明提供一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水工艺及系统，能够对酸性氯化铜蚀刻废液进行回收利用，并能够获得用于消毒或除菌方面的弱酸性次氯酸水。

为了解决上述问题，本发明采用的技术方案为：

一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水工艺，包括下述步骤，

S1、废液的电解：将电解酸性氯化铜蚀刻液废液作为电解液进行电解，以在阴极板上获得金属铜及在阳极板上获得含杂质的氯气；

S2、氯气的处理：将步骤S1中杂质氯气进行收集，且将杂质氯气依次通过稀硫酸溶液及纯水，以去除氯气中的铜离子及杂气体，并以获得有效氯气；

S3、弱酸性次氯酸水的制备：对步骤S2获得的有效氯气依次通过氢氧化钠溶液及盐酸溶液，以依次获得次氯酸钠溶液、弱酸性次氯酸水。

进一步地，所述步骤S3中，所述次氯酸钠溶液的氯酸钠质量分数为10Wt％，所述盐酸溶液的中盐酸质量分数为35Wt％，所述弱酸性次氯酸水的浓度为500ppm。

进一步地，在所述步骤S3中，每5kg的次氯酸钠溶液在制备所述弱酸性次氯酸水时需要加水947.365kg。

一种蚀刻废液制备弱酸性次氯酸水系统，包括废液处理模块、气体处理模块及制备模块，

所述废液处理模块包括储存区及电解槽，所述储存区用于获取蚀刻液生产线的电解酸性氯化铜蚀刻液废液，且所述储存区与所述电解槽连接；

所述气体处理模块包括铜离子去除装置及杂气体去除装置，所述铜离子去除装置内设有稀硫酸溶液，且所述铜离子去除装置的入口端与所述电解槽的阳极收集区连接，所述铜离子去除装置的出口端与所述杂气体去除装置连接，所述杂气体去除装置设有纯水；

所述制备模块包括次氯酸钠溶液生成装置及次氯酸水生成装置，

所述次氯酸钠溶液生成装置设有氢氧化钠溶液，且所述次氯酸钠溶液生成装置一端与所述杂气体去除装置导通连接，另一端与所述次氯酸水生成装置导通连接；

所述次氯酸水生成装置包括生成箱，所述生成箱内设有盐酸溶液，且所述生成箱与所述次氯酸钠溶液生成装置导通连接。