[发明专利]一种ITO废靶回收金属铟锡的方法

说明书

本发明公开了一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，ITO废靶先进行除锡工序，再进行除铟工序，除锡工序和除铟工序按次序分开进行；ITO废靶用到除锡反应釜和除铟反应釜，除锡工序中除锡率可达100％,铟在渣中的损失率仅为0.47‑0.5％；除铟工序中，去除锡后的ITO废靶含有的铟的浸出率在99.5‑99.9％；除锡反应釜和除铟反应釜均设置有加热装置和控温装置；ITO废靶进行除锡工序和除铟工序前分别进行水洗作业。本发明具有铟和锡回收分开在两个反应釜中进行，先回收锡，再回收铟，减少资源浪费的优点。

技术领域

本发明涉及ITO废靶回收技术领域，具体为一种ITO废靶回收金属铟锡的方法。

背景技术

ITO叫氧化铟锡，是一种铟(III族)氧化物(In₂O₃)和锡(IV族)氧化物(SnO₂)的混合物，通常质量比为90％In₂O₃，10％SnO₂。它在薄膜状时，透明，略显茶色。在块状态时，它呈黄偏灰色。

ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。

ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。

ITO薄膜应力规可以在高于1400℃及严酷的环境中使用，例如气体涡轮、喷气引擎、还有火箭引擎。

近年来，随着电子信息技术的发展，用于沉积ITO薄膜的靶材用量迅猛增加，但是目前ITO靶材的利用率只有30％左右，会有70％的靶材成为废料，存在很大的资源浪费问题。

ITO废靶中含有大量的金属锡和金属铟，铟作为重要的稀有资源，用一点就少一点。一般的对ITO废靶中的铟锡回收的技术中，铟和锡的回收是在一个反应釜中进行的，铟和锡的回收条件不一样，同一个反应釜进行回收作业会导致铟和锡的回收不彻底，含有铟和锡的残余。

发明内容

本发明的目的在于提供一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，具备铟和锡回收分开在两个反应釜中进行，先回收锡，再回收铟，减少资源浪费的优点，解决了铟和锡的回收使在一个反应釜中进行的，铟和锡的回收条件不一样，同一个反应釜进行回收作业会导致铟和锡的回收不彻底，含有铟和锡的残余的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，包括以下步骤：

S1、将回收的ITO废靶先进行水洗，将ITO废靶在纯净水池中浸泡2-3min，然后将浸泡后的ITO废靶在流动的纯净水下冲洗，水洗后烘干；

S2、水洗后的ITO废靶加入到除锡反应釜中，向除锡反应釜中加入H₂SO₄溶液，H₂SO₄溶液没过ITO废靶，通过加热装置将除锡反应釜加热；

S3、除锡反应釜中反应，锡被浸出，将锡溶液排出；

S4、将锡溶液加入到沉淀池中，并向沉淀池中加入H2S溶液，锡溶液在沉淀池中进行硫化沉锡反应，得到的沉淀物为锡块，并将锡块水洗烘干；

S5、除锡后的ITO废靶再次进行水洗，将水洗后的除锡后ITO废靶加入到除铟反应釜中，向除铟反应釜中加入H₂SO₄溶液，H₂SO₄溶液没过除锡后ITO废靶，通过加热装置将除铟反应釜加热；

S6、除铟反应釜中反应，铟被浸出，将铟溶液排出；除锡、铟后废靶取出回收；