[发明专利]一种边缘环高度测量装置及方法

权利要求书

1.一种边缘环高度测量装置，用于在等离子体反应腔内的静电吸盘上测量围绕静电吸盘设置的边缘环的高度变化，其特征在于，包括：

成像设备，用于获取边缘环的图像；

所述成像设备的承载盘，可放置于所述静电吸盘上，所述承载盘具有定位点。

2.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，还包括光源。

3.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述成像设备包括：

位于所述承载盘上的相机，其镜头可以对准所述边缘环的上表面；

与所述相机相连的控制器件，用于和外部设备之间的无线通信。

4.如权利要求3所述的测量装置，其特征在于，所述相机至少为四个，分别对应所述边缘环不同区域。

5.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述成像设备包括，位于所述承载盘上的平面镜组件。

6.如权利要求5所述的测量装置，其特征在于，所述平面镜组件包括平面镜和支架，所述成像设备还包括与支架电连接的调节器件，用于调整平面镜的倾斜角度。

7.如权利要求6所述的测量装置，其特征在于，所述成像设备还包括位于所述反应腔外部的图像分析器，所述图像分析器可以通过反应腔的窗口获取所述平面镜所成的边缘环的像。

8.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述成像设备与所述承载盘固定连接，所述定位点用于保证所述成像设备相邻两次获取的图像属于所述边缘环同一区域。

9.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述边缘环包括聚焦环。

10.一种等离子体处理系统，包括工艺处理腔、传输腔和存储腔，其特征在于，包括如权利要求1-9任意一项所述的测量装置。

11.如权利要求10所述的处理系统，其特征在于，所述测量装置可以通过所述传输腔在工艺处理腔和存储腔之间传送。

12.一种边缘环高度变化的测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，在反应前，将如权利要求1-9任意一项所述的测量装置放入等离子体反应腔内，获取所述边缘环的高度图像；

步骤二，在反应后，将如权利要求1-9任意一项所述的测量装置放入等离子体反应腔内，获取所述边缘环的高度图像；

步骤三，将步骤一和步骤二获取的图像进行比对，计算所述边缘环的高度变化。

13.如权利要求12所述的测量方法，其特征在于，所述步骤一所获取的高度图像为所述边缘环的初始高度，所述步骤三计算的高度变化为边缘环高度相对于初始高度的总变化量。

14.如权利要求12所述的测量方法，其特征在于，所述步骤三计算的高度变化为相邻两次获取的高度图像的变化量。

15.如权利要求12所述的测量方法，其特征在于，所述步骤二的高度图像为：获取所述边缘环同一区域的多个高度图像。

16.如权利要求12所述的测量方法，其特征在于，所述步骤二的高度图像为：获取所述边缘环不同区域的高度图像。

17.如权利要求12所述的测量方法，其特征在于，所述边缘环的高度变化用于调整所述边缘环的高度。

18.如权利要求12所述的测量方法，其特征在于，所述边缘环的高度变化用于调整所述边缘环所在电路的电容值。