[发明专利]一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置

权利要求书

1.一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于，包括：

离子源单元，所述离子源单元包括离子源腔体，所述离子源腔体内能够容纳并固定离子源极片；

红外激光单元，所述红外激光单元包括激光发射组件和聚焦透镜，所述激光发射组件能够朝向离子源极片的方向发射激光，所述聚焦透镜正对所述激光发射组件设置且二者之间的距离能够调整，所述聚焦透镜位于所述激光发射组件与离子源极片之间，所述聚焦透镜能够令所述激光发射组件发射的激光光斑聚焦；

仪器壳体，所述红外激光单元可滑动地设置于所述仪器壳体内，所述红外激光单元、所述仪器壳体的相对滑动方向与所述聚焦透镜、所述激光发射组件的相对位移方向相垂直，所述离子源腔体与所述仪器壳体可拆卸连接。

2.根据权利要求1所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述仪器壳体包括仪器腔盖、仪器腔体和接线座，所述仪器腔盖设置于所述仪器腔体的顶部，所述仪器腔盖与所述仪器腔体可拆卸连接，所述红外激光单元设置于所述仪器腔盖与所述仪器腔体围成的空间内，所述接线座贯穿所述仪器腔体的侧壁，所述红外激光单元能够利用所述接线座与外部电源相连。

3.根据权利要求2所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述离子源腔体与所述仪器腔盖可拆卸连接，所述离子源腔体位于所述仪器腔盖的顶部，所述仪器腔盖具有第一通过孔，离子源极片正对所述第一通过孔设置。

4.根据权利要求2所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述红外激光单元还包括X轴移动平台和Y轴移动平台，所述Y轴移动平台可滑动地设置于所述仪器腔体内，所述X轴移动平台可滑动地设置于所述Y轴移动平台上，所述Y轴移动平台、所述仪器腔体的相对滑动方向与所述X轴移动平台、所述Y轴移动平台的相对滑动方向相垂直，所述激光发射组件与所述X轴移动平台相连。

5.根据权利要求4所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述Y轴移动平台与所述仪器腔体之间、所述X轴移动平台与所述Y轴移动平台之间均设置滑轨。

6.根据权利要求5所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述X轴移动平台、所述Y轴移动平台均连接有驱动元件。

7.根据权利要求4所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述激光发射组件与所述X轴移动平台可拆卸连接。

8.根据权利要求1所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述激光发射组件包括激光正极、激光负极，所述激光正极位于所述激光负极的顶部，所述激光正极、所述激光负极均与外部电源相连。

9.根据权利要求6所述的用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，其特征在于：所述红外激光单元还包括聚焦透镜安装块，所述聚焦透镜安装块与所述X轴移动平台可拆卸连接，所述聚焦透镜安装块具有第二通过孔，所述聚焦透镜正对所述第二通过孔设置，所述聚焦透镜可滑动地与所述聚焦透镜安装块相连。